[发明专利]辐射束设备有效
申请号: | 201580063807.2 | 申请日: | 2015-11-10 |
公开(公告)号: | CN107003447B | 公开(公告)日: | 2020-03-24 |
发明(设计)人: | J·德克尔斯;H-K·尼恩惠斯;M·J·M·林肯斯;J·A·G·阿克曼斯;G·C·德弗里斯;E·R·鲁普斯特拉 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王静 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 辐射 设备 | ||
1.一种可调整衍射光栅,包括:
光学元件,具有用于接收输入辐射束的光学表面,所述光学元件设置有在所述光学表面下方的多个闭合通道,在每一闭合通道上方,所述光学表面由材料的薄膜形成;和
变形机构,包括一个或多个致动器,所述一个或多个致动器能够操作以使在所述闭合通道上的所述薄膜变形,以便控制所述光学表面的形状和在所述光学表面上形成周期性结构,所述周期性结构用作衍射光栅使得所述输入辐射束从所述光学元件衍射以形成多个角分离的子束。
2.根据权利要求1所述的可调整衍射光栅,其中所述一个或多个致动器能够操作以控制所述闭合通道的内部与所述光学表面之间的压力差。
3.根据权利要求1所述的可调整衍射光栅,其中所述多个闭合通道填充有流体且所述变形机构包括能够操作以控制所述多个闭合通道内的所述流体的压力的一个或多个致动器。
4.根据权利要求3所述的可调整衍射光栅,其中当在22℃评估时,所述流体具有在10Pa至100Pa的范围内的蒸气压。
5.根据权利要求3所述的可调整衍射光栅,其中所述流体包括形式为CxHy〇z的烃,其中x和y都大于或等于1,z大于或等于0。
6.根据权利要求3至5中任一项所述的可调整衍射光栅,还包括外部流体供应器,所述外部流体供应器被布置成以将流体供应至所述多个闭合通道和从所述多个闭合通道移除流体。
7.根据权利要求6所述的可调整衍射光栅,其中所述外部流体供应器被布置成在所述多个闭合通道内形成振荡压力。
8.根据权利要求1-5中任一项所述的可调整衍射光栅,其中所述变形机构包括一个或多个压电致动器,所述一个或多个压电致动器、或所述一个或多个压电致动器中的每一压电致动器能够操作以使在所述多个闭合通道中的一个或多个上的所述薄膜变形以便控制所述光学表面的所述形状。
9.根据权利要求8所述的可调整衍射光栅,其中所述多个闭合通道填充有流体,且所述一个或多个压电致动器或所述一个或多个压电致动器中的每一压电致动器能够操作以控制在所述多个闭合通道内的所述流体的压力。
10.根据权利要求8所述的可调整衍射光栅,其中每一压电致动器能够操作以直接控制其中设有所述压电致动器的闭合通道上方的所述材料的薄膜。
11.根据权利要求8所述的可调整衍射光栅,其中所述压电致动器为压电弯曲致动器,所述压电弯曲致动器包括两个电极和安置在所述电极之间的一个或多个压电材料层。
12.根据权利要求1-5中任一项所述的可调整衍射光栅,其中所述变形机构包括一个或多个静电致动器,所述一个或多个静电致动器、或所述一个或多个静电致动器中的每一静电致动器能够操作以使在所述多个闭合通道中的一个或多个上的所述薄膜变形以便控制所述光学表面的所述形状。
13.根据权利要求1-5中任一项所述的可调整衍射光栅,其中所述多个闭合通道成组布置,其中每一组中的所有通道流体连通且每一组闭合通道与邻近组隔离。
14.根据权利要求13所述的可调整衍射光栅,其中每一组闭合通道设置有被布置成将所述每一组闭合通道内的闭合通道中的每一个连接在一起的一个或多个连接通道。
15.根据权利要求13所述的可调整衍射光栅,其中每一组闭合通道设置有致动器,所述致动器能够操作以控制在所述每一组闭合通道的所述闭合通道中的每一个内的流体压力。
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