[发明专利]核壳粒子、核壳粒子的制造方法及薄膜有效
申请号: | 201580060597.1 | 申请日: | 2015-11-18 |
公开(公告)号: | CN107074544B | 公开(公告)日: | 2020-05-05 |
发明(设计)人: | 小野雅司 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | C01B25/08 | 分类号: | C01B25/08;C01G9/08;C09K11/08;B82Y20/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 庞东成;张志楠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 粒子 制造 方法 薄膜 | ||
1.一种核壳粒子,其具有含有III族元素及V族元素的核、与覆盖所述核表面的至少一部分的含有II族元素及VI族元素的壳,所述核壳粒子中,
通过X射线光电子能谱分析所测定的所述II族元素的峰值强度比相对于所述III族元素的峰值强度比的比例为0.25以上0.41以下,
通过X射线光电子能谱分析所测定的所述VI族元素的峰值强度比相对于所述III族元素的峰值强度比的比例为0.80以上,
所述III族元素为In、Al、Ga中的任一种元素;所述V族元素为P、N、As中的任一种元素;所述II族元素为Zn、Cd、Mg中的任一种元素;所述VI族元素为S、O、Se、Te中的任一种元素。
2.根据权利要求1所述的核壳粒子,其中,
所述III族元素为In,所述V族元素为P、N及As中的任一种元素。
3.根据权利要求2所述的核壳粒子,其中,
所述III族元素为In,所述V族元素为P。
4.根据权利要求1或2所述的核壳粒子,其中,
所述II族元素为Zn,所述VI族元素为S或Se。
5.根据权利要求4所述的核壳粒子,其中,
所述II族元素为Zn,所述VI族元素为S。
6.根据权利要求1或2所述的核壳粒子,其中,
通过X射线光电子能谱分析所测定的所述II族元素的峰值强度比相对于所述III族元素的峰值强度比的比例为0.35以上。
7.一种核壳粒子的制造方法,其合成权利要求1~6中任一项所述的核壳粒子,所述核壳粒子的制造方法包括:
第1工序,制备将包含III族元素的III族原料与包含II族元素的II族原料混合并溶解而成的混合溶液;
第2工序,在所述混合溶液中添加包含V族元素的V族原料,从而形成含有所述III族元素及所述V族元素的核;及
第3工序,在形成所述核后的混合溶液中添加包含VI族元素的VI族原料,从而在所述核表面的至少一部分上形成含有所述II族元素及所述VI族元素的壳,
所述第3工序在230℃以上的温度下进行。
8.根据权利要求7所述的核壳粒子的制造方法,其中,
所述第2工序在小于230℃的温度下进行。
9.根据权利要求8所述的核壳粒子的制造方法,其中,
所述第2工序在120℃以上且200℃以下的温度下进行。
10.根据权利要求7~9中任一项所述的核壳粒子的制造方法,其中,
所述第3工序在240℃以上的温度下进行。
11.根据权利要求7~9中任一项所述的核壳粒子的制造方法,其中,
所述III族元素为In,所述V族元素为P、N及As中的任一种元素。
12.根据权利要求11所述的核壳粒子的制造方法,其中,
所述III族元素为In,所述V族元素为P。
13.根据权利要求7~9中任一项所述的核壳粒子的制造方法,其中,
所述II族元素为Zn,所述VI族元素为S或Se。
14.根据权利要求13所述的核壳粒子的制造方法,其中,
所述II族元素为Zn,所述VI族元素为S。
15.根据权利要求7~9中任一项所述的核壳粒子的制造方法,其中,
所述III族原料为In的氯化物。
16.根据权利要求7~9中任一项所述的核壳粒子的制造方法,其中,
所述II族原料为Zn的氯化物。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201580060597.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。