[发明专利]具有低闪光、DOI和透射雾度的防眩光基材有效

专利信息
申请号: 201580060100.6 申请日: 2015-09-04
公开(公告)号: CN107074629B 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: B·A·巴泽莫;金宇辉;侯军 申请(专利权)人: 康宁股份有限公司
主分类号: C03C15/00 分类号: C03C15/00;C03C3/087;C03C3/091;G02B5/02
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 徐鑫;项丹
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 闪光 doi 透射 眩光 基材
【说明书】:

揭示了防眩光基材和包含其的制品的实施方式。在一个或多个实施方式中,防眩光基材包括织构化表面,其具有多个平均横截面尺寸小于或等于约30微米的特征。基材或制品展现出小于或等于10%的透射雾度、小于或等于约7%或者小于或等于6%的PPDr、以及小于或等于约80的DOI。还揭示了用于形成防眩光基材的方法,包括用具有低水溶解度的蚀刻剂来蚀刻基材表面以提供经蚀刻的表面,以及去除一部分的经蚀刻的表面。方法包括在对表面进行蚀刻的同时,在表面上形成多个不可溶晶体(例如,K2SiF6和K3AlF6中的任意一种或多种)。蚀刻剂还可包含钾盐、有机溶剂和含氟酸。

相关申请交叉参考

本申请根据35 U.S.C.§119,要求2014年9月8日提交的美国临时申请系列第62/047,254号的优先权,本文以该申请为基础并将其全文通过引用结合于此。

背景技术

本文涉及展现出防眩光性质的基材,更具体地,涉及展现出低闪光、低图像清晰度(DOI)和低透射雾度的基材。

消费电子技术的发展必须改进各种覆盖基材性质。一种此类改善领域是用于消费者电子装置,例如智能(移动)电话、平板、电子阅读器、显示器和TV的防眩光表面。

已知的防眩光表面通常具有织构化表面,其是通过在基材的表面上形成晶体,以及对基材未被晶体覆盖的部分进行蚀刻形成的。在一些情况下,氢氟酸(HF)、氟化氢铵(NH4HF2)、丙二醇(PG)和无机酸(例如,硫酸H2SO4)被用于在玻璃基材上形成此类防眩光表面。

对于消费者电子应用,已知的防眩光表面会在低透射雾度水平(例如,小于或等于10%)下展现出闪光(或粒状外观)。当在显示系统中结合防眩光或光散射表面时,会发生显示器“闪光”现象。闪光与非常细小的粒状外观相关,看上去会使得颗粒图案偏移以及显示器的可视角改变。当通过防眩光表面观察像素化显示器例如LCD时,会观察到这种类型的闪光。此类闪光的类型不同于投射或激光系统中观察到和作为其特性的“闪光”或“斑点”,并且此类闪光起源于投射或激光系统中观察到和作为其特性的“闪光”或“斑点”。

随着显示器展现出更高的清晰度和以更高的密度组件像素,减少闪光变得更为重要。因此,需要展现出低闪光的同时仍然展现出低DOI和低透射雾度的防眩光表面。

发明内容

本文的第一个方面属于形成防眩光表面的方法,其包括:用蚀刻剂蚀刻掉基材的一部分表面以提供经蚀刻的表面,以及去除一部分经蚀刻的表面以提供防眩光表面。所得到的具有防眩光表面的基材展现出小于或等于10%的透射雾度、小于或等于约6%的PPDr,以及防眩光表面展现出小于或等于约80的DOI。所得到的防眩光表面可以包括织构化表面,其具有多个凹面特征,所述凹面特征具有从表面向外朝向的开口。开口的平均横截面尺寸可以小于或等于约30微米。

在一个或多个实施方式中,方法包括:在用(可通过喷涂施加的)蚀刻剂蚀刻掉一部分的表面的同时,在表面上产生多个不可溶晶体。蚀刻剂可展现出小于或等于约50g/100g水的水溶解度。在一些情况下,不可溶晶体包括钾,并且可以包括K2SiF6和K3AlF6中的任意一种或多种。在一些其他情况下,不可溶晶体展现出小于约10g/100g水的水溶解度。

在一个或多个实施方式中,去除一部分的经过蚀刻的表面包括去除厚度最高至约100微米的表面(例如,约40-100微米)。可以通过将表面暴露于化学抛光溶液来去除厚度。在一些情况下,在去除一部分的经过蚀刻的表面之前去除蚀刻剂。

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