[发明专利]苛性水性烷基糖苷剥离剂组分

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求2014年8月19日提交的美国临时专利申请No.62/039,228的优先权，在此该申请的全部内容通过引用并入本申请中。

背景技术

聚合物底物，例如在循环过程中形成的塑料再研磨料，可能包括不合需要的涂层。例如，涂层可能包括油墨、标签、粘合剂、金属薄膜，等。在进一步使用这些底物例如用于塑料制品制造的再生原料之前，需要处理这些聚合底物以移除不合需要的涂层。现有工艺使用极苛性溶液、高温和/或高压，或者高成本试剂清除涂层。

本申请理解从聚合物底物清除涂层可能是挑战性尝试。

发明内容

在一种实施方式中，提供单相水溶液。单相水溶液可用于清除聚合物底物的一个或多个涂层。单相水溶液可包括无机碱组分。单相水溶液可包括表面活性剂组分。表面活性剂组分可包括一种或多种烷基糖苷。单相水溶液可包括水。

在另一种实施方式中，提供过程混合物。该过程混合物包括聚合物底物。该聚合物底物可包括一个或多个涂层。过程混合物可包括单相水溶液。单相水溶液可包括无机碱组分。单相水溶液可包括无机碱组分。单相水溶液可包括表面活性剂组分。表面活性剂组分可包括一种或多种烷基糖苷。单相水溶液可包括水。

在另一实施方式中，提供使用单相水溶液清除聚合物底物的一个或多个涂层的方法。该方法可包括提供单相水溶液。单相水溶液可包括无机碱组分。单相水溶液可包括表面活性剂组分。表面活性剂组分可包括一种或多种烷基糖苷。单相水溶液可包括水。该方法可包括提供聚合物底物。该聚合物底物可包括一个或多个涂层。该方法可包括使单相水溶液和聚合物底物接触以形成过程混合物。该方法可包括在可有效清除聚合物底物的一个或多个涂层的部分的条件下，形成过程混合物。

在一种实施方式中，提供试剂盒。试剂盒可用于制作单相水溶液用于清除聚合物底物的一个或多个涂层。该试剂盒可包括以下组分中的一种或多种：无机碱组分和表面活性剂组分。表面活性剂组分可包括一种或多种烷基糖苷。该试剂盒可包括说明。该说明可指导用户将无机碱组分以及表面活性剂组分和水混合以形成单相水溶液。

附图说明

结合进说明书并成为其一部分的附图阐明了示例性方法和装置并仅用于阐明示例性实施方式。

图1是描述示例性方法的流程图。

图2是描述示例性试剂盒的框图。

图3是基于实例2和3的结果报告表。

具体实施方式

本申请涉及用于清除聚合物底物的一个或多个涂层的组分、过程混合物和试剂盒。

在各种实施方式中，提供单相水溶液。该单相水溶液可用于清除聚合物底物的一个或多个涂层。单相水溶液可包括无机碱组分。单相水溶液可包括表面活性剂组分。表面活性剂组分可包括一种或多种烷基糖苷。

在一些实施方式中，单相水溶液可包括水，占单相水溶液的重量百分比(w/w)约为以下至少一种或多种：90％,91％,92％,93％,94％,95％,96％,97％,98％,98.1％,98.2％,98.3％,98.4％,98.5％,98.6％,98.7％,98.8％,和98.9％。例如，单相水溶性可包括至少约94％的重量的水。单相水溶液可包括水，其重量百分比在上述任意上述重量百分比之间。

在各种实施方式中，无机碱组分可包括以下一种或多种：碱金属氢氧化物、碱土金属氧化物、或碱土金属氢氧化物。进一步的，无机碱组分可由或主要由以下一种或多种组成：碱金属氢氧化物、碱土金属氧化物或碱土金属氢氧化物。如此处使用的，碱金属可包括例如锂、钠、钾、铷或铯。碱土金属可包括，例如铍、镁、钙、锶或钡。例如，无机碱组分可包括以下一种或多种：氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、氧化镁、氧化钙、氢氧化镁或氢氧化钙。无机碱组分可由或主要由以下一种或多种组成：氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、氧化镁、氧化钙、氢氧化镁或氢氧化钙。无机碱组分可包括氢氧化钠。无机碱组分可包括氢氧化钾。无机碱组分可由或主要由氢氧化钠组成。无机碱组分可由或主要由氢氧化钾组成。