[发明专利]用于化学电离样品的设备和方法

权利要求书

1.一种用于电离气态流体样品的电离设备，所述电离设备包括：

电离器，其配置于提供反应物离子；

离子改性器，其配置于改性所述反应物离子，以及

反应区域，其配置于接收经改性的反应物离子和样品并且将样品与经改性的反应物离子合并以便电离所述样品，从而用于被配置于鉴定所述样品中受关注物质的检测器所分析。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述设备包括掺杂剂流提供器，其配置于提供穿过所述电离器的掺杂剂流；和电场施加器，其配置于将所述反应物离子从所述掺杂剂流移出并移至所述离子改性器。

3.一种用于检测受关注物质的检测设备，该设备包括：

根据权利要求1或2所述的电离设备，其配置于电离样品以提供产物离子；

检测器，其配置于根据分析所述电离设备产生的产物离子而检测受关注物质；以及

电场施加器，其配置于将所述产物离子移至所述检测器。

4.根据权利要求1或2所述的设备，其中，所述离子改性器布置在所述电离器和所述反应区域之间。

5.根据前述权利要求1或2所述的设备，其中，所述离子改性器配置于将反应物离子处于交流电场中。

6.根据前述权利要求1或2所述的设备，其中，所述设备包括控制器，其配置于操控所述电离器产生反应物离子，以及操控所述离子改性器以便基于所述电离器的运行计时来选择所述离子改性器的运行计时。

7.根据权利要求6所述的设备，其中，所述设备包括离子门，其配置于控制产物离子移动出所述反应区域的通道，其中，所述控制器配置于基于所述电离器和离子改性器中至少一种的运行计时来控制所述离子门的运行计时。

8.根据权利要求2所述的设备，其中，所述掺杂剂流提供器配置于在第一方向提供掺杂剂流，并且所述电场施加器配置于在不同于所述第一方向的第二方向上将所述反应物离子移至改性区域。

9.根据前述权利要求1、2或8所述的设备，其中，所述设备包括吹扫气提供器，其配置于提供穿过所述离子改性器的吹扫气流，从而使得提供给所述离子改性器的吹扫气流比至所述反应区域的大。

10.根据权利要求3所述的设备，其中，控制器配置于基于来自所述检测器的信号来操控所述离子改性器。

11.根据权利要求3所述的设备，其中，所述检测器包括离子迁移分光计和质谱仪中的一种。

12.一种电离气态流体的方法，所述方法包括：

电离掺杂剂以提供反应物离子；

改性所述反应物离子，以及

将经改性的反应物离子与样品合并以电离气态流体。

13.一种分析样品的方法，所述方法包括：

通过根据权利要求12所述的方法电离样品以提供产物离子，

施用电场以将所述产物离子移至检测器，以及

根据所述产物离子向用于检测受关注物质的检测器的移动情况分析产物离子。

14.根据权利要求12或13所述的方法，其中，所述方法包括将反应物离子相比于掺杂剂优先移至改性区域中。

15.根据权利要求12或13所述的方法，其中，所述反应物离子的改性包括提高所述反应物离子的有效温度。

16.根据权利要求15所述的方法，其中，提高所述反应物离子的有效温度包括将反应物离子处于交流电场中，以及加热所述反应物离子中的至少一种。