[发明专利]纳米线基透明导体的改善的光稳定性

说明书

在此披露了光稳定的光学叠层，所述光稳定的光学叠层包括由银纳米结构或银网形成的透明导电膜。具体地说，一种或更多种光稳定剂(诸如过渡金属盐)被并入所述光学叠层的一个或更多个组成层中。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2014年3月20日提交的美国临时专利申请第61/968,257号和于2014年11月3日提交的美国临时专利申请第62/074,497号基于法条35 U.S.C 119(e)的权益，通过引用将这些专利申请作为整体结合在此。

背景技术

本公开内容涉及纳米技术领域，且更具体地描述了具有优异的光稳定性的银纳米结构层或银网导电层之一或两者的透明导电膜的方法和结构。

发明内容

在此披露了具有银网或纳米结构基导电层的光稳定透明导体及其制造方法。具体地，在包含一种或更多种光稳定剂(诸如一种或更多种过渡金属添加剂)的透明导体中的光稳定性得到显著改善。

一个实施方式提供一种光学叠层，所述光学叠层包括：导电膜，所述导电膜包括银纳米线或银网；和光稳定剂，所述光稳定剂包括过渡金属盐或过渡配位络合物。

在各种进一步的实施方式中，所述光学叠层进一步包括基板、光学透明粘合剂、外覆层，在所述外覆层中包含有光稳定剂。

进一步的实施方式提供包含在此描述的所述光学叠层的装置。

又一实施方式提供一种涂层组合物，所述涂层组合物包括：多条银纳米线；和光稳定剂，所述光稳定剂包括过渡金属盐或过渡配位络合物。

附图说明

图1示出了包括纳米结构层的光学叠层的标准配置。

图2示出了包括覆盖纳米结构层的外覆层的光学叠层的替代配置。

图3示出了在光暴露下标准光学叠层中随时间的薄层电阻变化和边缘故障。

图4示出了形成有掺杂有光稳定剂的银纳米线墨水的光学叠层在氙(Xe)光源下随时间的薄层电阻变化。

图5示出了与由不含光稳定剂的对照墨水形成的标准光学叠层相比，由掺杂有光稳定剂的墨水形成的光学叠层在荧光灯下随时间的薄层电阻变化。

图6示出了在由掺杂有FeSO₄添加剂的银纳米线墨水形成的光学叠层中随时间的薄层电阻变化和边缘故障延迟。

图7示出了由掺杂有FeSO₄添加剂的墨水和不含光稳定剂的对照墨水形成的导电膜的雾度(haze)和薄层电阻的相关性。

图8示出了涂布有不含光稳定剂的对照墨水的膜、涂布有含光稳定剂的墨水的膜、以及具有光稳定剂的膜在高压层压之后的薄层电阻对雾度。

图9示出了涂布有不含光稳定剂的对照墨水的膜、以及涂布有掺杂有光稳定剂和络合剂的墨水的膜的薄层电阻对雾度。

图10示出了涂布有不含光稳定剂的对照墨水的膜、以及涂布有具有光稳定剂和pH调节剂的墨水的膜的薄层电阻对雾度。

图11示出了根据一个实施方式的具有掺杂有作为光稳定剂的过渡金属添加剂的外覆层的纳米结构膜随时间的薄层电阻变化和边缘故障延迟。

图12示出了根据另一实施方式的具有掺杂有作为光稳定剂的另一过渡金属添加剂的外覆层的纳米结构膜随时间的薄层电阻变化和边缘故障延迟。

图13示出了某一过渡金属添加剂缺乏光稳定效应。

图14示出了根据又一实施方式的具有掺杂有作为光稳定剂的又一过渡金属添加剂的外覆层的纳米结构膜随时间的薄层电阻变化和边缘故障延迟。