[发明专利]叠层膜及叠层膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201580018002.6 申请日: 2015-04-06
公开(公告)号: CN106132689B 公开(公告)日: 2018-01-23
发明(设计)人: 大桥纯平;三羽规文;石田康之;高田育 申请(专利权)人: 东丽株式会社
主分类号: B32B7/02 分类号: B32B7/02;B05D1/34
代理公司: 北京市中咨律师事务所11247 代理人: 黄媛,段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 叠层膜 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种叠层膜,其特征在于,在支持基材的至少一个面上具有包含A层和B层的表面层,从支持基材侧开始,按照B层、A层的顺序相接,由微小硬度计测得的A层的25℃的储存弹性模量EA25、B层的25℃的储存弹性模量EB25、支持基材的25℃的储存弹性模量EC25、A层的120℃的储存弹性模量EA120、B层的120℃的储存弹性模量EB120、支持基材的120℃的储存弹性模量EC120满足以下条件,

条件1 EA25<EB25≤EC25

条件2 EB120≤EA120<EC120

条件3 EA25≤100MPa。

2.根据权利要求1所述的叠层膜,其特征在于,所述A层、B层、支持基材满足以下条件,

条件4 0<EC25-EB25<5GPa

条件5 0<EA120-EB120<50MPa。

3.根据权利要求1或2所述的叠层膜,其特征在于,所述B层的玻璃化转变温度TgB满足以下条件,

条件6 60℃≤TgB≤130℃。

4.根据权利要求1或2所述的叠层膜,其特征在于,所述B层的厚度TB满足以下条件,

条件7 0.1μm≤TB≤5μm。

5.根据权利要求3所述的叠层膜,其特征在于,所述B层的厚度TB满足以下条件,

条件7 0.1μm≤TB≤5μm。

6.根据权利要求1或2所述的叠层膜,其特征在于,在所述表面层的与基材垂直的截面中,由原子力显微镜测得的距离表面层的表面为表面层厚度的10%的位置即位置1的弹性模量E1、距离表面层的表面为表面层厚度的50%的位置即位置2的弹性模量E2、距离表面层的表面为表面层厚度的99%的位置即位置3的弹性模量E3满足以下条件,

条件8 E1≤E2<E3

条件9 E1≤100MPa

条件10 E3≥1GPa。

7.根据权利要求3所述的叠层膜,其特征在于,在所述表面层的与基材垂直的截面中,由原子力显微镜测得的距离表面层的表面为表面层厚度的10%的位置即位置1的弹性模量E1、距离表面层的表面为表面层厚度的50%的位置即位置2的弹性模量E2、距离表面层的表面为表面层厚度的99%的位置即位置3的弹性模量E3满足以下条件,

条件8 E1≤E2<E3

条件9 E1≤100MPa

条件10 E3≥1GPa。

8.根据权利要求4所述的叠层膜,其特征在于,在所述表面层的与基材垂直的截面中,由原子力显微镜测得的距离表面层的表面为表面层厚度的10%的位置即位置1的弹性模量E1、距离表面层的表面为表面层厚度的50%的位置即位置2的弹性模量E2、距离表面层的表面为表面层厚度的99%的位置即位置3的弹性模量E3满足以下条件,

条件8 E1≤E2<E3

条件9 E1≤100MPa

条件10 E3≥1GPa。

9.根据权利要求5所述的叠层膜,其特征在于,在所述表面层的与基材垂直的截面中,由原子力显微镜测得的距离表面层的表面为表面层厚度的10%的位置即位置1的弹性模量E1、距离表面层的表面为表面层厚度的50%的位置即位置2的弹性模量E2、距离表面层的表面为表面层厚度的99%的位置即位置3的弹性模量E3满足以下条件,

条件8 E1≤E2<E3

条件9 E1≤100MPa

条件10 E3≥1GPa。

10.一种叠层膜的制造方法,其特征在于,是权利要求1~9的任一项所述的叠层膜的制造方法,所述表面层是通过将2种以上涂料组合物在支持基材上依次涂布、干燥、固化而形成的。

11.一种叠层膜的制造方法,其特征在于,是权利要求1~9的任一项所述的叠层膜的制造方法,所述表面层是通过将2种以上涂料组合物在支持基材上同时涂布、干燥、固化而形成的。

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