[发明专利]导电性图案、带导电性图案的基材、带导电性图案的基材的制造方法、在表面具有导电性图案的结构体及该结构体的制造方法有效
申请号: | 201580005923.9 | 申请日: | 2015-01-28 |
公开(公告)号: | CN105934802B | 公开(公告)日: | 2018-04-17 |
发明(设计)人: | 大屋秀信;新妻直人;山内正好 | 申请(专利权)人: | 柯尼卡美能达株式会社 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B13/00;H05K1/09;H05K3/10;H05K3/24 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 岳雪兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 导电性 图案 基材 制造 方法 表面 具有 结构 | ||
技术领域
本发明涉及导电性图案、带导电性图案的基材、带导电性图案的基材的制造方法、在表面具有导电性图案的结构体及该结构体的制造方法,更具体而言,涉及由线宽小于10μm的导电性细线构成的导电性图案、带导电性图案的基材、带导电性图案的基材的制造方法、在表面具有导电性图案的结构体及该结构体的制造方法。
背景技术
印刷法适用于大面积化、连续生产(例如卷对卷(Roll to Roll))、具有大幅降低生产成本的优点,近年来,尝试着将其应用于诸如电子部件的制造等。
在专利文献1中,记载了通过喷墨装置利用金属微粒子墨来描绘电路图案,接下来对该基板进行热处理或者光线处理,使所述电路图案所含有的聚合物或者界面活性剂分解挥发,形成期望膜厚的导体图案,再对此进行金属镀膜处理。
另外,专利文献2记载了形成配线7μm的Pd电路,在对此进行加压处理后,实施镀铜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:(日本)特开2002-134878号公报
专利文献2:(日本)特开2003-306792号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
但是在专利文献1、2的技术中,无法充分满足下述(1)~(5)的要求。
(1)降低构成导电性图案的导电性细线的可视性。
例如,在将布置有导电性图案的基材作为诸如显示屏用透明电极使用时,需要降低导电性细线的可视性。
(2)通过降低导电性细线的电阻值来降低导电性图案的电阻值。
从降低可视性等方面考虑而使线宽小于10μm的导电性细线,为了发挥足够的导电性,需要降低电阻值。
(3)提高基材与导电性图案的粘接性。
例如在制造柔性显示屏时,需要提高基材与导电性图案的粘接性,从而稳定地保持导电性图案。
(4)抑制在使带导电性图案的基材弯曲的情况下的电阻值的改变,以便进行柔性化。
(5)赋予耐高温潮湿等耐久性。
因此,本发明的课题在于提供导电性图案、带导电性图案的基材、带导电性图案的基材的制造方法、在表面具有导电性图案的结构体及该结构体的制造方法,其能够降低导电性细线的可视性,能够降低电阻值,能够提高基材与导电性图案的粘接性,能够抑制基材弯曲时电阻值的改变,还能够被赋予耐高温潮湿等耐久性,
另外,本发明的其它课题将通过以下的记载而变得明确。
用于解决技术问题的技术方案
所述技术问题由以下的各发明解决。
1.一种导电性图案,其特征在于,
所述导电性图案是由线宽小于10μm的导电性细线构成的图案,
所述导电性细线的至少一部分是多层结构,
作为该多层结构的组成部分,包含第一层和第二层,第一层含有从导电性粒子、导电性填充物、导电性线中选择的一种或两种以上导电材料,膜厚小于500nm;第二层的膜厚比所述第一层厚,以金属作为主要成分。
2.如1所述的导电性图案,其特征在于,
所述第一层与所述第二层的膜密度不同。
3.如1或2所述的导电性图案,其特征在于,
所述导电性细线的表面的算术平均粗糙度Ra在200nm以上且小于2000nm。
4.如1~3中任一项所述的导电性图案,其特征在于,
所述第一层以银或铜作为主要成分,所述第二层以铜作为主要成分。
5.如1~4中任一项所述的导电性图案,其特征在于,
在所述第二层的与所述第一层相反的一侧还具有第三层。
6.一种带导电性图案的基材,其特征在于,
在进行了表面处理的基材上设置有由线宽小于10μm的导电性细线构成的图案,
所述导电性细线的至少一部分是多层结构,
作为该多层结构的组成部分,包含第一层和第二层,第一层含有从导电性粒子、导电性填充物、导电性线中选择的一种或两种以上导电材料,膜厚小于500nm;第二层的膜厚比所述第一层厚,以金属作为主要成分。
7.如6所述的带导电性图案的基材,其特征在于,
所述表面处理是提高所述基材的表面能的处理。
8.如6或7所述的带导电性图案的基材,其特征在于,
所述表面处理是在所述基材的表面形成树脂层的处理。
9.如6~8中任一项所述的带导电性图案的基材,其特征在于,
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