[实用新型]基于电磁场强化的等离子体化学气相沉积的石墨烯纳米墙

权利要求书

1.一种基于电磁场强化的等离子体化学气相沉积的石墨烯纳米墙,其 特征在于，包括衬底、石墨烯墙阵列及多个石墨烯分叉，所述石墨烯墙阵列 中的石墨烯片垂直长在所述衬底上，多个所述石墨烯分叉长在所述石墨烯墙 阵列中每个石墨烯片一侧或两侧。

2.根据权利要求1所述一种基于电磁场强化的等离子体化学气相沉积 的石墨烯纳米墙,其特征在于，所述石墨烯墙阵列中石墨烯片厚度为1-20纳 米，高度为0.5-5微米，所述石墨烯分叉由1至10层单层石墨烯构成。

3.根据权利要求1所述一种基于电磁场强化的等离子体化学气相沉积 的石墨烯纳米墙,其特征在于，所述石墨烯墙阵列中的石墨烯片之间的距离 为10-200纳米。

4.根据权利要求1至3任一项所述一种基于电磁场强化的等离子体化 学气相沉积的石墨烯纳米墙,其特征在于，所述衬底上具有金纳米颗粒，所 述石墨烯墙阵列中石墨烯片生长在所述金纳米颗粒上。

5.根据权利要求4所述一种基于电磁场强化的等离子体化学气相沉积 的石墨烯纳米墙,其特征在于，所述金纳米颗粒粒径为1-20纳米。