[实用新型]多参数R值倒角磨轮有效

专利信息
申请号: 201521054842.1 申请日: 2015-12-16
公开(公告)号: CN205310084U 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 张松江;贺贤汉;徐旺君 申请(专利权)人: 上海申和热磁电子有限公司
主分类号: B24D5/00 分类号: B24D5/00
代理公司: 上海顺华专利代理有限责任公司 31203 代理人: 陈淑章
地址: 200444 上海市宝*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 参数 倒角
【说明书】:

技术领域

实用新型公开了多参数R值倒角磨轮,涉及硅片倒角加工,属于机械加工领域。

背景技术

硅是很好的半导体,因为硅的储量大,价格相对砷化镓比较便宜,广泛应用于微电子,太阳能等领域。硅半导体的特性,掺杂不同物质(部分3价或5价元素)就可以呈现不同的导电特性,其次,也可以将其氧化,硅氧化物是绝缘体,故可用作隔离。硅的使用广泛,需求量大。

石英(即氧化硅)经碳、高温生成粗硅,化工处理后生成精硅,再经过高温拉伸生成单晶硅,多为硅棒,经过切割机切制成硅片。硅片的边缘通常呈直角和有微缺陷,需要倒角来改善硅片边缘的物理状况。硅片经过切割后边缘表面有崩边甚至有裂缝或其它缺陷,边缘表面比较粗糙。为了增加硅切片边缘机械强度、减少颗粒污染,就要将其边缘磨削呈圆弧状或梯形。倒角磨轮对硅片进行倒角可使其具有、避免应力集中的优点。

常规设计的用于硅片的倒角磨轮为多个等半径凹槽,需要根据不同的产品规格进行替换,更换时间长,效率低,不利于不同产品的加工;硅片的倒角磨轮采购周期长(一般为2至3个月),成本高。

实用新型内容

针对现有技术中的不足。

本实用新型公开了多参数R值倒角磨轮,其特征在于,所述多参数R值倒角磨轮的凹槽数大于等于4个,所述凹槽的截面为圆弧,所述圆弧的半径为0.1mm~0.4mm,所述凹槽半径分为两组以上,每组的半径不相等。

所述多参数R值倒角磨轮的凹槽半径分为2~4组。

所述多参数R值倒角磨轮的凹槽半径为4组,各组凹槽半径分别为0.4mm,0.3mm,0.2mm,0.1mm。

所述多参数R值倒角磨轮位置相近的凹槽半径变化为0.02mm~0.03mm。

所述多参数R值倒角磨轮的凹槽半径为4组,各组凹槽半径分别为0.4mm,0.38mm,0.36mm,0.34mm。

本实用新型新设计采用1个磨轮多个R值参数,常规设计通常需要根据产品的不同而更换磨轮,多参数R值倒角磨轮通常不需要更换磨轮,提高了效率。多参数R值倒角磨轮可以预先设计不同的R值;既可满足客户要求多样性的要求,也可以降低采购周期和成本。多参数R值倒角磨轮加工时通过不同凹槽加工,为改善倒角加工过程中硅片崩边和硅片外延后外周缺陷创造条件。

附图说明

图1为多参数R值倒角磨轮的截面图;

图2为多参数R值倒角磨轮的右视图;

图3为多参数R值倒角磨轮的俯视图;

图4为等R值倒角磨轮的截面图;

图中:1、第一凹槽,2、第二凹槽,3、第三凹槽,4、第四凹槽。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例,对本实用新型做进一步说明。

实施例1:

本实用新型公开了多参数R值倒角磨轮的凹槽数等于4个,凹槽的截面为圆弧,圆弧的半径为0.1mm~0.4mm,凹槽半径分为两组以上,每组的半径不相等。

多参数R值倒角磨轮的凹槽半径分为4组,各组凹槽半径分别为0.4mm,0.3mm,0.2mm,0.1mm。第一凹槽1的凹槽半径为0.4mm,第二凹槽2的凹槽半径为0.3mm,第三凹槽3的凹槽半径为0.2mm,第四凹槽4的凹槽半径为0.1mm,

实施例2:

多参数R值倒角磨轮的凹槽数大于等于4个,凹槽的截面为圆弧,圆弧的半径为0.1mm~0.4mm,凹槽半径分为两组以上,每组的半径不相等。多参数R值倒角磨轮的凹槽半径为4组,多参数R值倒角磨轮位置相近的凹槽半径变化为0.02mm~0.03mm。各组凹槽半径分别为0.4mm,0.38mm,0.36mm,0.34mm。

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