[实用新型]湿式显影辅助晃动机构

说明书

[技术领域]

本实用新型涉及湿式显影设备技术领域，具体地说是一种湿式显影辅助晃 动机构。

[背景技术]

在LED制程中，显影是不可或缺的技术。目前常用的显影方式有：①整盒硅 片浸没式显影(BatchDevelopment),该方式显影液消耗很大，显影均匀性差； ②连续喷雾显影(ContinuousSprayDevelopment)/自动旋转显影 (Auto-rotationDevelopment)，该方式通过一个或多个喷嘴喷洒显影液在硅 片表面，同时硅片低速旋转(100～500rpm)，喷嘴喷雾模式和硅片旋转速度是 实现硅片间溶解率和均匀性的可重复性的关键调节参数；③水坑(旋覆浸没) 式显影(PuddleDevelopment)，即喷覆足够(不能太多，最小化背面湿度)的 显影液到硅片表面，并形成水坑形状(显影液的流动保持较低，以减少边缘显 影速率的变化)，硅片固定或慢慢旋转，一般采用多次旋覆显影液：第一次涂覆 、保持10～30秒、去除，第二次涂覆、保持、去除，然后用去离子水冲洗(去 除硅片两面的所有化学品)并旋转甩干。该方案优点是显影液用量少，硅片显 影均匀，最小化了温度梯度。

显影工艺可能存在三个问题：①显影不完全(IncompleteDevelopment)， 表面还残留有光刻胶，这是由显影液不足造成的。②显影不够(Under Development)，显影的侧壁不垂直，这是由显影时间不足造成的。③过度显影 (OverDevelopment)，靠近表面的光刻胶被显影液过度溶解，形成台阶，这是 因显影时间太长造成的。

在当前的LED行业，整盒硅片浸没式显影(BatchDevelopment)因其高效 率、低成本的优势依然占据较大的市场。作为设备制造商，为了提高整盒硅片 浸没式显影(BatchDevelopment)的显影均匀性，避免显影不完全或过显影， 提出了各种方式，比如采用循环制程槽、超声波辅助、上下振荡机构辅助等， 并将之应用于机台，通过物理力的辅助，取得了较显著的效果。但目前常用的 辅助方式比较如下表1：

表1

[实用新型内容]

本实用新型的目的就是要解决上述的不足而提供一种湿式显影辅助晃动机 构，使每一片晶圆在显影液中以可调的速率以及可调的运动半径做匀速圆周运 动，以辅助的物理力使周围的显影液流场均匀可控，提高了显影均匀性和显影 速率，避免了显影不够或过度显影情况的出现。

为实现上述目的设计一种湿式显影辅助晃动机构，包括安装吊轴1、不锈钢 外壳2和载具3，所述安装吊轴1固定连接在不锈钢外壳2顶端，所述不锈钢外 壳2内部装有伺服电机4和减速机5，所述减速机5的输出端连接有传动齿轮6， 所述传动齿轮6的输出端连接转轴7，所述转轴7的另一端装有摇臂8，所述摇 臂8固定连接在载具3上，所述载具3上设有用于放置晶圆9的花篮10。

所述传动齿轮6包括主动齿轮以及位于主动齿轮左右两侧的从动齿轮，所 述主动齿轮与从动齿轮啮合连接，所述从动齿轮上穿设有转轴7，所述主动齿轮、 从动齿轮均为树脂齿轮。

所述不锈钢外壳2上减速机5的输出端处设有位置传感器，所述位置传感 器通过线路连接伺服电机4和减速机5。

所述花篮10下方设有制程槽11，所述制程槽11内盛有显影液，所述花篮 10浸没于显影液中。

所述摇臂8与载具3之间设置有连接板12。

所述安装吊轴1采用PFA包覆。

所述载具3、传动齿轮6、转轴7、摇臂8、连接板12均采用NPP或PTFE 材质制成。

所述制程槽11采用NPP材质制成，所述花篮10采用PFA材质制成。

所述不锈钢外壳2采用sus304材质制成，所述不锈钢外壳2表面喷涂有PTFE 层。

所述不锈钢外壳2采用PP材质制成。