[实用新型]一种在OVD沉积过程中保护喷灯导轨的装置

说明书

技术领域

本实用新型属于光纤预制棒生产制造技术领域，尤其是涉及一种在OVD沉积过程中保护喷灯导轨的装置。

背景技术

由于使用大直径光纤预制棒拉丝，能够大大的提高光纤的生产效率，有效的降低光纤的生产成本，在大直径光纤预制棒生产上，OVD技术作为生产预制棒包层的工艺具有得天独厚的技术优势，因此，OVD技术必将受到越来越多的企业家们的关注和青睐。

OVD技术的工艺原理是火焰水解反应，所谓火焰水解反应，是指四氯化硅(SiCl4)、四氯化锗(GeCl4)蒸汽与氢氧焰发生水解反应，生成玻璃微粒，其化学反应方程式如公式1、公式2所示：

SiCl4+2H2+O2→SiO2+4HCl↑…………………公式1

GeCl4+2H2+O2→GeO2+4HCl↑…………………公式2

OVD技术的工艺过程如下：四氯化硅(SiCl4)、四氯化锗(GeCl4)蒸汽通过喷灯喷出，与喷灯口的氢氧焰发生水解反应，生成SiO2微粒；控制喷灯沿喷灯导轨来回运动，从而将SiO2微粒逐层均匀的沉积在匀速旋转的母棒表面；通过控制光纤预制棒中每一层二氧化锗(GeO2)的含量，实现光纤预制棒折射率剖面分布的控制。由于OVD技术生产光纤预制棒时，是喷灯沿着喷灯导轨来回运动，将SiO2颗粒沉积在母棒表面的，因此，光纤预制棒的以下几个性能受喷灯导轨精度的影响：

(1)光纤预制棒的外径波动：喷灯导轨精度达不到要求，喷灯导轨表面不平整，在OVD沉积过程中，喷灯沿喷灯导轨来回运动时不稳定，导致部分位置沉积时间长，部分位置沉积时间短，使生产的光纤预制棒外径不均匀；

(2)芯包同心度：喷灯导轨精度达不到要求，喷灯导轨轴向准直不合格，在OVD沉积过程中，喷灯沿喷灯导轨来回运动时，呈微小的“S”型运动，导致沉积的光纤预制棒芯包同心度不合格；

(3)光纤预制棒的光学性能：喷灯导轨精度达不到要求，在OVD沉积过程中，喷灯沿喷灯导轨来回运动时不稳定，导致光纤预制棒每一层不均匀，影响光纤预制棒的折射率剖面分布，这必将影响到光纤预制棒的光学性能。

由上可知，为保证光纤预制棒的质量，需要喷灯导轨的精度达到很高的要求，一般在5μm/m以内，因此，喷灯导轨的材质一般都是不锈钢。然而，传统OVD沉积设备的喷灯导轨是裸露在沉积腔内，其结构如图1所示，只有导轨表面的一层润滑油用作防护，但是，由公式1、公式2可知，OVD沉积腔内是强酸性和高温环境，因此，在使用一段时间后，喷灯导轨会被腐蚀，一方面，喷灯导轨被腐蚀后，将破坏喷灯导轨的精度，同时，喷灯导轨被酸性气体腐蚀产生的铁离子，在高温条件下挥发，会被气流携带渗进光纤预制棒中，这些都将影响到光纤预制棒的质量，导致光纤预制棒不合格，使得报废率升高，增加光纤预制棒的生产成本。另一方面，喷灯导轨被腐蚀后，需停止生产，更换喷灯导轨，势必影响设备的生产效率，同时，喷灯导轨价格昂贵，较高频次更换喷灯导轨，会大大的增加光纤预制棒的生产成本。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型旨在提出一种在OVD沉积过程中保护喷灯导轨的装置，能够有效对保护喷灯导轨不被腐蚀或生长锈斑。

为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：

一种在OVD沉积过程中保护喷灯导轨的装置，包括L型气封结构、挡板、以及滑动安装在喷灯导轨上的滑动模块、以及安装在滑动模块上的喷灯基座；所述挡板设置在所述喷灯导轨一侧；所述L型气封结构的短立臂设置在所述喷灯导轨异于设置有挡板的一侧，其长卧臂朝所述挡板方向横穿入所述喷灯基座的凹槽内；所述长卧臂朝向挡板的一端设有一排气封端面小孔，在所述挡板朝向所述L型气封结构的一侧对应气封端面小孔的位置设有一排挡板端面小孔；所述挡板与所述长卧臂之间留有气帘间隙；所述气封端面小孔均与所述L型气封结构上设置的气封氮气接口连通；所述挡板端面小孔均与所述挡板上设置的挡板氮气接口连通；所述喷灯基座内设有与所述喷灯连通的气体管路。

进一步，所述喷灯基座上的气体管路与喷灯的主管路采用软管连接。

进一步，所述L型气封结构为具有气封空腔的中空结构，其上的所述气封氮气接口及气封端面小孔均与所述气封空腔连通。

进一步，所述挡板为具有挡板空腔的中空结构，其上的所述挡板氮气接口及挡板端面小孔均与所述挡板空腔连通。

进一步，所述挡板与所述长卧臂之间的气帘间隙为2cm～2.5cm。

相对于现有技术，本实用新型具有以下优势：