[实用新型]一种应用于氧化扩散炉的上料送片装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及氧化扩散炉设备，尤其涉及一种应用于氧化扩散炉的上料送片装置。

背景技术

在现代工业中，氧化扩散炉设备常常被应用于半导体IC以及太阳能电池片等领域，进行扩散及烧成、氧化、烧渗等工艺。但目前行业内所使用的氧化扩散炉一般采用单桨对单炉的加工技术，且送片过程需人工反复操作，自动化程度较低。

发明内容

本实用新型的目的是设计一种应用于氧化扩散炉的上料送片装置，通过对传统氧化扩散炉上料送片技术进行改进，以提高氧化扩散炉在上料送片过程中的自动化水平，达到节省人力的目的。

本实用新型为达到上述目的所采取的技术方案是：一种应用于氧化扩散炉的上料送片装置，其特征在于：该装置包括A升降导轨、A升降导轨基板、平移电机、平移导轨、桨、平移电机支架、B升降导轨基板、B升降导轨、升降电机支架、升降电机、平移导轨滑块、升降丝杠螺母、平移导轨基板、升降导轨滑块、升降丝杠、平移丝杠螺母和平移丝杠；其中，A升降导轨基板和B升降导轨基板分别固定在炉体内框架上，左侧两根A升降导轨分别固定在A升降导轨基板上，右侧两根B升降导轨分别固定在B升降导轨基板上，升降导轨滑块分别安装在A升降导轨和B升降导轨上；平移导轨基板与安装在A升降导轨和B升降导轨上的升降导轨滑块固定，两根平移导轨通过平移导轨滑块固定在平移导轨基板上；升降电机通过升降电机支架固定在B升降导轨基板上，同时升降电机通过齿轮与置于B升降导轨上的升降丝杠连接；平移电机通过平移电机支架固定在平移导轨基板上，同时平移电机通过齿轮与置于平移导轨上的平移丝杠连接；平移丝杠螺母和升降丝杠螺母分别安装在平移丝杠和升降丝杠上；载着硅片的桨（6的后端固定在平移导轨滑块上。

本实用新型所产生的有益效果是：提高了氧化扩散炉设备上料送片的自动化水平；解决了上料送片过程中人工反复操作的问题；提高了工作效率。

附图说明

图1是本实用新型的主视剖面示意图；

图2是图1的局部放大示意图；

图3是本实用新型的俯视剖面示意图；

图4是本实用新型放大的右视剖面示意图；

图5是本实用新型控制原理框图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步说明：

参照图1至图4，一种应用于氧化扩散炉的上料送片装置包括A升降导轨1、A升降导轨基板2、平移电机4、平移导轨5、桨6、平移电机支架7、B升降导轨基板8、B升降导轨9、升降电机支架10、升降电机11、平移导轨滑块12、升降丝杠螺母13、平移导轨基板14、升降导轨滑块15、升降丝杠16、平移丝杠螺母17和平移丝杠18；其中，A升降导轨基板2和B升降导轨基板8分别固定在炉体内框架上，左侧两根A升降导轨1分别固定在A升降导轨基板2上，右侧两根B升降导轨9分别固定在B升降导轨基板8上，升降导轨滑块15分别安装在A升降导轨1和B升降导轨9上；平移导轨基板14与安装在A升降导轨1和B升降导轨9上的升降导轨滑块15固定，两根平移导轨5通过平移导轨滑块12固定在平移导轨基板14上；升降电机11通过升降电机支架10固定在B升降导轨基板8上，同时升降电机11通过齿轮与置于B升降导轨9上的升降丝杠16连接；平移电机4通过平移电机支架7固定在平移导轨基板14上，同时平移电机4通过齿轮与置于平移导轨5上的平移丝杠18连接；平移丝杠螺母17和升降丝杠螺母13分别安装在平移丝杠18和升降丝杠16上；载着硅片3的桨6的后端固定在平移导轨滑块12上。

参照图5，本实用新型采用单桨对多炉的炉体上料送片技术，利用PLC通过两个伺服电机分别控制载着硅片的桨进行Y轴的升降及X轴的水平运动，使其根据对应的工艺到达不同的炉口高度位置后，将桨推进炉内完成送片。

本实用新型的设计以及工作原理：当需要将载有硅片3的桨6进行Y轴的升降时，PLC控制升降电机11通过齿轮带动升降丝杠1在A升降导轨7和B升降导轨13转动，进而驱动升降丝杠16上的升降丝杠螺母13推动桨6，由于桨6的后端固定在平移导轨滑块12上，平移导轨滑块12固定在平移导轨基板14上，平移导轨基板14又与安装在A升降导轨1和B升降导轨9上的升降导轨滑块15固定，升降导轨滑块18也随着桨6的升降在A升降导轨1和B升降导轨9上滑动，使桨6达到指定高度。

当桨6到达指定高度后，进行X轴的水平移动，PLC控制平移电机4通过齿轮带动平移丝杠18在平移导轨5上转动，进而驱动平移丝杠螺母17推动桨6，从而带动桨6的水平运动，使其到达指定的位置，并将桨6载着硅片3的部分推入炉内，完成送片。

将硅片3送入炉内后，通过PLC控制平移电机4驱动桨6水平运动，返回原位置；然后再通过PLC控制升降电机11驱动桨6的升降运动，返回原位置，即完成一个循环送片。