[实用新型]一种具有防水照度计的浸润式光刻机

权利要求书

1.一种具有防水照度计的浸润式光刻机，用于对硅片进曝光，其包括从上往下依次设置的光源、掩膜板以及投射物镜，所述投射物镜的下方设有待曝光的硅片，其特征在于，还包括：

照度计，用于采集硅片表面投射的光量，放置在所述硅片的表面，所述照度计的表面涂覆有防水涂层；

处理单元，与所述照度计连接，用于接收所述照度计采集的光量值，并对其进行分析处理；

浸润部件，用于提供浸润介质，设于所述投射物镜下方的圆周方向上，所述浸润部件包括液体供应管道以及液体回收管道，所述液体供应管道以及液体回收管道分别设于所述投射物镜的两侧，其中，浸润介质从液体供应管道流出，并从液体回收管道回收，形成浸润介质的循环供给。

2.根据权利要求1所述的具有防水照度计的浸润式光刻机，其特征在于，所述照度计包括依次连接的光量传感器、A/D转换模块、微控制模块以及通信模块，所述光量传感器将采集的光量数据经过A/D转换模块转换为数字信号后传输至微控制模块，微控制模块读取数据后传输至通信模块，由所述通信模块将光量数据通过无线网络传输至所述处理单元。

3.根据权利要求1所述的具有防水照度计的浸润式光刻机，其特征在于，所述防水涂层的厚度为10μm～100μm。

4.根据权利要求1所述的具有防水照度计的浸润式光刻机，其特征在于，所述硅片的表面涂覆有防水涂层。

5.根据权利要求1所述的具有防水照度计的浸润式光刻机，其特征在于，所述照度计具有显示单元，所述显示单元用于显示硅片表面测量的光量值。

6.根据权利要求1所述的具有防水照度计的浸润式光刻机，其特征在于，所述处理单元设在所述照度计内部。

7.根据权利要求1所述的具有防水照度计的浸润式光刻机，其特征在于，所述照度计通过无线网络与计算机连接，所述计算机内部设有处理单元。

8.根据权利要求1所述的具有防水照度计的浸润式光刻机，其特征在于，所述硅片被夹持在工件台上。