[实用新型]一种连续性水平浸渍镀膜系统

说明书

技术领域

本实用新型属于镀膜技术领域，具体涉及一种连续性水平浸渍镀膜系统。

背景技术

薄膜制备设备是指在洁净的衬底上通过制备薄膜的设备将多功能薄膜制备到衬底上并具备某种特殊功能。而浸渍镀膜是指将某一特定衬底浸渍到特定的溶液中，从而在衬底上形成具备一定功能的薄膜制备方式。

目前国内在浸渍镀膜方面做得相对比较成熟的是采用浸渍提拉镀膜的方式。浸渍提拉镀膜也称垂直提拉镀膜，采用垂直提拉的方式，通过控制提拉速度、提拉时间、镀膜次数和镀膜间隔参数的优化从而实现形成功能膜的作用。垂直提拉方式是目前比较常用的技术，但其存在很多局限性：

1、功能膜不均匀。垂直提拉镀膜形成的功能膜在上、中、下各区域的薄膜均匀差异性会达到10％左右，甚至更大。尤其是针对大面积的垂直提拉镀膜时，衬底的底部是最早进入到溶液中，最晚离开溶液，导致在同等浸渍镀膜条件下，上、中、下区域所附着的溶液具有很大的差异，从而影响到最终功能膜的光学和电学特性；

2、目前垂直提拉镀膜均采用的是夹具的方式，夹具夹取玻璃边缘的宽幅最优在10mm左右，在垂直镀膜的过程中，这些夹具底部会浸入到溶液或是清洗液中，导致提拉过程中或后续的风干工艺等处理过程中，均会有残余的水流重新进入到膜面，导致膜面出现大量的缺陷，从而影响到工艺的稳定生产。一般情况下，针对精细镀膜，不允许有夹具触碰到衬底镀膜面，因触碰过的区域无法在溶液中形成镀膜，会影响成品率和最终终端使用；

3、因面积增大，垂直提拉镀膜形成的功能膜的均匀性会显著下降，因此目前垂直提拉主要还是应用在小面积的科研领域。针对小面积，比如3cm*3cm，垂直提拉镀膜的均匀性不会有影响，而且从科研角度考虑取中间最均匀点即可，无需顾虑整个面的均匀性，而对于大面积，比如1400*1100mm的衬底，对其均匀性的要求则极为苛刻，这是目前的垂直提拉方式无法稳定得以实现的；

4、垂直提拉镀膜方式不适合于不同厚度衬底的快速切换。垂直提拉过程中，溶液槽设计是以扁、高设计，而且基片要整片浸渍到底部，意味着随着玻璃的重量越重，溶液面上升的越高，越容易溢出。比如1400(L)*1100(W)*3(T)mm和1400(L)*1100(W)*4(T)mm的衬底，同等面积下，其重量相差4.5KG，同等溶液槽体体积的情况下，会出现不同程度的溢流，导致不同衬底切换时需要通过额外的装置去不断进行补液，增加额外投资成本；

5、垂直提拉镀膜的节拍需要很长时间，受不同尺寸、不同厚度玻璃的影响，其提拉速度很慢，否则很容易导致溶液不稳定，溶液不稳定导致最终在衬底上形成的功能膜不稳定、直至影响均匀性。尤其是，大部分浸渍镀膜的功能膜都是需要经过后续的清洗等工序处理的，那么意味着采用垂直提拉清洗的方式会耗费大量的时间，从而无法规模化生产；

6、垂直提拉镀膜对衬底表面的缺陷及其附着颗粒会很敏感，在垂直提拉过程中，这些缺陷或是附着颗粒在功能膜表面滑动，导致最终在功能膜表面形成缺陷，影响最终的产品良率；

7、针对建筑一体化的镀膜玻璃，从安全角度考虑，其玻璃厚度均为4mm、6mm或是8mm或是更厚，从外观角度，建筑对玻璃的外观颜色一致性要求极为苛刻，意味着对均匀性的要求更高，因此采用垂直提拉的方式，其局限性会更加凸显；

8、针对大面积的垂直提拉镀膜，需要设计很深的溶液槽体，比如针对1.4米高的玻璃，意味着槽体需要高于1.4米，而过深的溶液槽，易导致部分功能溶液会沉积到底部，从而引起槽体内溶液从上到下浓度逐步提升，不利于功能膜的均匀性制备。

实用新型内容

为了克服现有技术的缺点与不足，本实用新型的目的在于提供一种连续式水平浸渍镀膜系统，可实现任何面积浸渍镀膜的全自动、高稳定性生产，大幅度降低工序运行和清洗所耗费的时间。

实现上述目的的技术方案如下：

一种连续式水平浸渍镀膜系统，包括机器人、机器人控制中心和循环滑轨，机器人与机器人控制中心信号连接，所述机器人滑动式设置在循环滑轨上，循环滑轨用于机器人循环滑动；所述机器人设有操作臂，所述操作臂前端设置数个用于吸附衬底基片的吸盘，机器人带动操作臂动作；循环滑轨侧旁设置有镀膜溶液槽和清洗槽。

优选的，所述连续式水平浸渍镀膜系统还包括衬底基片预清洗及定位系统，所述衬底基片预清洗及定位系统设置于循环滑轨侧旁，用于对衬底基片进行预清洗并定位，以满足后续镀膜工序的要求。

优选的，所述连续式水平浸渍镀膜系统还包括干燥系统，所述干燥系统设置在循环滑轨侧旁；优选的，所述干燥系统为烘烤炉或风刀装置。