[实用新型]水准仪脚螺旋扭结构有效
| 申请号: | 201520402225.X | 申请日: | 2015-06-05 |
| 公开(公告)号: | CN204718598U | 公开(公告)日: | 2015-10-21 |
| 发明(设计)人: | 苗飞;郭红喜 | 申请(专利权)人: | 苗飞 |
| 主分类号: | G01C15/00 | 分类号: | G01C15/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 476600 河南省永*** | 国省代码: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 水准仪 螺旋 扭结 | ||
技术领域
本实用新型涉及建筑领域中用于测量使用的水准仪,尤其是涉及一种水准仪脚螺旋扭结构。
背景技术
众所周知的是,建筑领域中广泛运用的水准仪,其包括基座、目镜、物镜、望远镜调焦螺旋、粗瞄准器、圆水准气泡、水准管、制动螺旋、微倾螺旋、微动螺旋、脚螺旋等,用户在调节过程中需要扭动不同的旋钮以对整个水准仪进行相应的调节,诸如脚螺旋等旋钮,由于其是金属质地的旋钮,其周向设置摩擦纹路以保证手在握住过程中具有较大的摩擦力,但该种结构设计在长期使用的情况下,存在诸如用户力量较小的情况下打滑的问题,影响用户的工作效率以及产品的使用性能,并且,水准仪的脚螺旋无法根据用户的需要自由调节其表面用于增加摩擦力的摩擦结构。
实用新型内容
本实用新型的目的就是为了解决上述问题,提供一种水准仪脚螺旋扭结构。
为了实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
水准仪脚螺旋扭结构,其包括水准仪中用于调节圆水准气泡结构中气泡位置的脚螺旋扭(E),所述脚螺旋扭的周向侧壁设置有多个内凹槽结构(1),该脚螺旋扭的侧壁上安装有柔性材质制成的摩擦垫(2),所述摩擦垫的表面设置有若干圆柱状孔状结构,所述圆柱状孔状结构可拆卸地安装有位于摩擦垫表面的凸起结构(3),相邻凸起结构之间具有间隙(4)。
进一步,所述摩擦垫以橡胶材质制成。
进一步,所述凸起结构具有:
嵌入圆柱状孔状结构的圆柱状嵌入体(30);
设于圆柱状嵌入体尾部的半球形尾部(31),所述半球形尾部设置有若干点状凸起结构。
本实用新型具有如下有益效果:该脚螺旋扭结构与用户的手之间能够最大限度的提高其摩擦力,并且脚螺旋扭结构的表面用于采用可拆卸布置的凸起结构,可根据用户的需要任意调节脚螺旋扭结构表面的凸起布局,以满足不同用户的需求。
附图说明
图1为水准仪脚螺旋扭结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施例,进一步阐述本实用新型。
如图1所示,水准仪脚螺旋扭结构,其包括水准仪中用于调节圆水准气泡结构中气泡位置的脚螺旋扭E,该脚螺旋扭于水准仪基座下方布置有三个,所述脚螺旋扭的周向侧壁设置有多个内凹槽结构1,该内凹槽结构的设计旨在保证附着于脚螺旋扭侧壁的附着结构的稳定性以及可靠性,该内凹槽结构可在脚螺旋扭的周向侧壁等间距设置,诸如采用环形阵列的方式布局,该脚螺旋扭的侧壁上安装有柔性材质制成的摩擦垫2(诸如采用橡胶材质制成的摩擦垫,其成本较低,且摩擦相较于金属材质效果更好,该摩擦垫呈一个圆环状结构),该摩擦垫的内侧设置有与内凹槽结构配合的凸部,所述摩擦垫的表面设置有若干圆柱状孔状结构(诸如采用图中沿着脚螺旋扭高度方向设置七排,且七排孔状结构均采用环形阵列布置,布置数量根据摩擦垫的周向尺寸而定),采用圆柱状孔状结构便于用户的安装对位工作,如果采用方形等结构存在插入相应结构时存在对位比较麻烦的问题,所述圆柱状孔状结构可拆卸地安装有位于摩擦垫表面的凸起结构3,相邻凸起结构之间具有间隙4,该间隙在一定程度上有利于增加用户与脚螺旋扭之间的摩擦效果。由于脚螺旋扭的周向侧壁为圆环状结构,鉴于此,凸起结构沿圆环状结构表面环形阵列布置较佳。
其中,所述凸起结构同样采用橡胶材质制成,且该凸起结构具有:嵌入圆柱状孔状结构的圆柱状嵌入体30;设于圆柱状嵌入体尾部的半球形尾部31,所述半球形尾部设置有若干点状凸起结构。该种凸起结构由于是柔性材质,可随意的进行相应的形变,用户的手持效果舒适度更佳,相较于金属材质的纹路,该种结构有利于长期使用的舒适性以及可靠性,不易存在打滑现象,并且,该凸起结构由于采用用户自我调节安装的结构设计,可在脚螺旋扭的侧壁上部分圆弧上不安装凸起结构,该不安装凸起结构的侧壁部分则形成一个便于用户手指嵌入其中进行旋转调节的结构。
所述圆柱状孔状结构的底部可设置诸如磁铁材质的孔底,而凸起结构的圆柱状嵌入体则的端部设置金属体,如此则可实现凸起结构与圆柱状孔状结构之间的吸附固定。
以上所述仅为本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅限于上述实施方式,凡是属于本实用新型原理的技术方案均属于本实用新型的保护范围。对于本领域的技术人员而言,在不脱离本实用新型的原理的前提下进行的若干改进,这些改进也应视为本实用新型的保护范围。
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