[实用新型]处理系统及用于工艺腔室中的基板载体

权利要求书

1.一种处理系统，包含：

工艺腔室，所述工艺腔室被配置以在基板上沉积材料；和

永磁掩膜夹盘，所述永磁掩膜夹盘被定位于所述工艺腔室中，所述永磁掩膜夹盘包含：

定位装置；

多个耦接至所述定位装置的永磁体，所述定位装置被配置以控制提供给掩膜的磁力量值，以使得将所述掩膜磁性夹持在所述基板上方的适当位置中。

2.如权利要求1所述的处理系统，其中所述定位装置被配置以相继方式移动所述永磁体。

3.如权利要求2所述的处理系统，其中所述定位装置可操作以在相对于所述永磁掩膜夹盘的周边部分中的永磁体更接近所述掩膜的所述永磁掩膜夹盘的中心部分中定位所述永磁体。

4.如权利要求2所述的处理系统，其中由所述永磁体产生的磁场在所述永磁掩膜夹盘的中心部分相对于所述永磁掩膜夹盘的周边部分更大。

5.如权利要求1所述的处理系统，其中所述定位装置可操作以在相对于所述永磁掩膜夹盘一侧处的永磁体更接近所述掩膜的所述永磁掩膜夹盘的相对侧处定位永磁体。

6.如权利要求1所述的处理系统，进一步包含：

用于支撑基板的支撑基座，所述支撑基座包含电极组件，所述电极组件被配置以产生静电基板夹持力，所述电极组件和支撑基座形成整体主体，所述主体被配置用于传送进出所述工艺腔室。

7.如权利要求6所述的处理系统，其中所述电极组件包含多个分布式电极，所述多个分布式电极进一步包含使第一电极与第二电极交错。

8.一种用于工艺腔室中的基板载体，所述基板载体包含：

支撑基座，所述支撑基座被配置以移动进出工艺腔室，所述支撑基座包含：

基板支撑表面；和

电极组件，所述电极组件可操作以将基板静电夹持至所述基板支撑表面；和

永磁掩膜夹盘，所述永磁掩膜夹盘被耦接至所述支撑基座，所述永磁掩膜夹盘包含：

夹盘主体，所述夹盘主体具有第一壁和第二壁，所述第一壁靠近所述支撑基座且所述第二壁远离所述支撑基座；

多个定位于所述夹盘主体中的永磁体，所述永磁体具有磁场；和

定位装置，以独立于所述支撑基座移动所述永磁掩膜夹盘。

9.如权利要求8所述的基板载体，其中所述多个永磁体在所述夹盘主体内为可定位的以使得第一磁体比第二磁体更接近所述基板支撑表面。

10.如权利要求8所述的基板载体，其中所述多个永磁体可相对于所述基板支撑表面移动。

11.如权利要求10所述的基板载体，进一步包含致动器，所述致动器被安置于所述夹盘主体中且可操作以控制所述永磁体相对于所述基板支撑表面的位置。

12.如权利要求8所述的基板载体，其中所述多个永磁体为可定位的以产生磁力，所述磁力相对于掩膜的一个部分施加更多力至所述掩膜的另一部分。

13.如权利要求12所述的基板载体，其中所述定位装置可操作以移动所述多个永磁体以相对于所述基板支撑表面的一个部分在所述基板支撑表面的另一部分处产生更强的磁力。

14.如权利要求12所述的基板载体，其中所述定位装置可操作以在中心至边缘序列中或边缘至相对边缘序列中更接近所述基板支撑表面定位移动所述永磁体。

15.如权利要求8所述的基板载体，其中面向所述基板支撑表面的所述多个永磁体具有交变极性。