[实用新型]一种玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构

说明书

【技术领域】

本实用新型涉及一种凹槽结构，尤其涉及一种玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构。

【背景技术】

现有的玻璃盖板的制备过程一般包括开料、CNC工艺、抛光、钢化、超声波清洗、真空镀膜以及丝印等一系列特殊加工工艺，玻璃盖板具有美化装置和保护的作用，目前，玻璃盖板产品广泛用于手机镜片(LENS)、平板电脑、数码相框、汽车导航仪(GPS)、MP4镜片等触摸屏产品中。

在玻璃盖板的制备过程中，需要在上述多种工序中输送或转移，由于玻璃盖板较轻薄且容易粘附杂物，对输送和转移过程的要求较高。其中，使用现有的吸附盘来吸附玻璃盖板这一方法普遍存在真空吸附力不足、运作成本高、难于操作的问题，因此，在玻璃盖板抛光装置中采用真空吸附玻璃盖板的方式对玻璃盖板进行吸附和传送还存在很大的技术难题。

【实用新型内容】

为克服现有接线方式存在的真空吸附力不足、操作繁琐费时缺点，本实用新型提供一种操作简便，吸附力强的玻璃盖板的吸附凹槽结构。

本实用新型提供一种吸附凹槽结构，其用于增大传送吸附盘的吸附板对玻璃盖板的吸附面积，增强其吸附力。该吸附凹槽结构为“田”字型和/或“井”字型和/或“米字型”结构中的一种或几种结合的吸附凹槽结构；该吸附凹槽结构还包括一个设于吸附凹槽结构的中心横纵交点处并与之贯通的吸附气孔，或，两个及以上设于吸附凹槽结构内及相对于吸附凹槽结构的中心轴对称分布并与之贯通的吸附气孔。

优选地，该吸附气孔与该凹槽之间形成贯通的气路。

优选地，吸附凹槽结构内设置的凹槽结构的深度为3.0-10.1mm，其深度还可为5.0-10.0mm，其深度进一步可为6.5-8.5mm。

优选地，吸附凹槽结构呢设置的凹槽结构的宽度为3.0-10.0mm，其宽度还可为5.5-8.5mm，其宽度进一步可为6.5-7.0mm。

优选地，吸附气孔的孔径为3.0-10.0mm，其孔径还可为6.0-9.0mm，其孔径进一步可为6.5-8.0mm。

优选地，吸附气孔的深度以贯穿传送吸附盘为准。

优选地，所述的吸附方式为真空吸附方式。

优选地，该吸附凹槽结构的范围应小于待输送转移的玻璃盖板的面积。

与现有技术相比，首先，本实用新型中可通过吸附凹槽结构及其吸附气孔与其它外设的吸附装置之间形成贯通的气路，使传送吸附盘的吸附板与置放在其上的玻璃盖板间形成真空负压或真空正压状态，从而实现玻璃盖板与传送吸附盘的吸附板之间的真空吸附固定。其次，本实用新型中吸附凹槽结构为“田”字型和/或“井”字型和/或“米”字型结构中的一种或几种结合的吸附凹槽结构，及，一个设于吸附凹槽结构的中心横纵交点处并与之贯通的吸附气孔，或，两个及以上设于吸附凹槽结构内及相对于吸附凹槽结构的中心轴对称分布并与之贯通的吸附气孔。本实用新型中的吸附凹槽结构可以增大传送吸附盘的吸附板与置放在传送吸附盘的吸附板之上的玻璃盖板之间的吸附面积，从而大大提高其吸附力。再次，本实用新型中吸附凹槽结构中包括一个设于吸附凹槽结构的中心横纵交点处并与之贯通的传送吸附气孔，或，两个及以上设于吸附凹槽结构内及相对于吸附凹槽结构的中心轴对称分布并与之贯通的传送吸附气孔，均匀分散排列于吸附板的吸附凹槽结构中，可以使通过传送吸附气孔的气体在真空吸附过程中的流出或流入更加均匀、平稳，且可以将吸附力平均分散至吸附凹槽结构所到之处，避免由于吸附板局部吸附力过弱，而出现玻璃盖板在吸附板上被吸附、转移、加工处理的过程中掉落，造成玻璃盖板的损坏。因此，本实用新型中的吸附凹槽结构大大提高了玻璃盖板置放的效率，可用于玻璃盖板的抛光工序中，具有市场应用前景。

【附图说明】

图1是本实用新型玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构第一实施例的结构示意图。

图2是本实用新型玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构第一实施例的俯视图。

图3是本实用新型玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构第一实施例的第一传送真空装置中的传送吸附盘的仰视图。

图4是本实用新型玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构第一实施例的第一传送真空装置中的传送吸附盘的结构示意图。

图5是本实用新型玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构第一实施例的传送吸附盘的吸附板的结构示意图。

图6是本实用新型玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构第一实施例的第一传送真空装置中的传送吸附盘的俯视图。

图7是本实用新型玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构第一实施例的物料托盘的结构示意图。