[实用新型]一种飞点形成装置有效
申请号: | 201520096965.5 | 申请日: | 2015-02-11 |
公开(公告)号: | CN204495745U | 公开(公告)日: | 2015-07-22 |
发明(设计)人: | 王彦华;曹艳锋;王少锋;刘铮 | 申请(专利权)人: | 北京君和信达科技有限公司 |
主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04;G01V5/00 |
代理公司: | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 11012 | 代理人: | 黄泽雄;金玺 |
地址: | 100011 北京市西城区*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 形成 装置 | ||
1.一种飞点形成装置,包括辐射源和屏蔽体,屏蔽体为中空圆柱体,屏蔽体侧壁上具有成对设置的螺旋槽,每对螺旋槽包括一个入射槽和一个出射槽,其特征在于,具有两对螺旋槽,其中,
第一入射槽的最高点和最低点分别对应辐射源射线束的最大上张角和最大下张角,第二入射槽的最高点和最低点也分别对应辐射源射线束的最大上张角和最大下张角;
在屏蔽体圆周方向上,第一入射槽和第二入射槽共同占0-180°的范围;
第一出射槽和第二出射槽分别与第一入射槽和第二入射槽相对应。
2.一种飞点形成装置,包括辐射源和屏蔽体,屏蔽体为中空圆柱体,屏蔽体侧壁上具有成对设置的螺旋槽,每对螺旋槽包括一个入射槽和一个出射槽,其特征在于,具有三对螺旋槽,其中,
第一入射槽的最高点和最低点分别对应辐射源射线束的最大上张角和最大下张角;
第二入射槽和第三入射槽在竖直方向上连续,且在水平方向上不连续;
第二入射槽的最高点对应辐射源射线束的最大上张角,第三入射槽的最低点对应辐射源射线束的最大下张角;
在屏蔽体圆周方向上,第一、第二和第三入射槽共同占0-360°的范围;
第一、第二和第三出射槽分别与第一、第二和第三入射槽相对应。
3.一种飞点形成装置,包括辐射源和屏蔽体,屏蔽体为中空圆柱体,屏蔽体侧壁上具有成对设置的螺旋槽,每对螺旋槽包括一个入射槽和一个出射槽,其特征在于,具有四对螺旋槽,其中,
第一入射槽和第二入射槽在竖直方向上连续,且在水平方向上不连续;
第一入射槽的最高点对应辐射源射线束的最大上张角,第二入射槽的最低点对应辐射源射线束的最大下张角;
第三入射槽和第四入射槽在竖直方向上连续,且在水平方向上不连续;
第三入射槽的最高点对应辐射源射线束的最大上张角,第四入射槽的最低点对应辐射源射线束的最大下张角;
在屏蔽体圆周方向上,第一、第二、第三和第四入射槽共同占0-360°的范围;
第一、第二、第三和第四出射槽分别与第一、第二、第三和第四入射槽相对应。
4.如权利要求3所述的飞点形成装置,其特征在于,其中第一入射槽和第二入射槽的分界面为第一分界面,第三入射槽和第四入射槽的分界面为第二分界面,第一分界面和第二分界面重合。
5.如权利要求3所述的飞点形成装置,其特征在于,其中第一入射槽和第二入射槽的分界面为第一分界面,第三入射槽和第四入射槽的分界面为第二分界面,第一分界面和第二分界面不重合。
6.一种飞点形成装置,包括辐射源和屏蔽体,屏蔽体为中空圆柱体,屏蔽体侧壁上具有成对设置的螺旋槽,每对螺旋槽包括一个入射槽和一个出射槽,其特征在于,具有五对螺旋槽,其中,
第一入射槽和第二入射槽在竖直方向上连续,且在水平方向上不连续;
第一入射槽的最高点对应辐射源射线束的最大上张角,第二入射槽的最低点对应辐射源射线束的最大下张角;
第三、第四和第五入射槽在竖直方向上两两连续,且在水平方向上两两不连续;
第三入射槽的最高点对应辐射源射线束的最大上张角,第五入射槽的最低点对应辐射源射线束的最大下张角;
在屏蔽体圆周方向上,第一、第二、第三、第四和第五入射槽共同占0-360°的范围;
第一、第二、第三、第四和第五出射槽分别与第一、第二、第三、第四和第五入射槽相对应。
7.一种飞点形成装置,包括辐射源和屏蔽体,屏蔽体为中空圆柱体,屏蔽体侧壁上具有成对设置的螺旋槽,每对螺旋槽包括一个入射槽和一个出射槽,其特征在于,具有至少三对螺旋槽,用于生成至少两列飞点,其中,
所述至少三对螺旋槽中的M个入射槽和M个出射槽用于生成一列飞点,M≥2;并且,
所述M个入射槽在竖直方向上两两连续,且在水平方向上两两不连续;
所述M个入射槽中的第1个入射槽的最高点对应辐射源射线束的最大上张角,所述M个入射槽中的第M个入射槽的最低点对应辐射源射线束的最大下张角;
在屏蔽体圆周方向上,所述M个入射槽共同占据的范围小于360°;
所述M个出射槽分别与所述M个入射槽相对应。
8.如权利要求7所述的飞点形成装置,其特征在于,其中,在屏蔽体圆周方向上,所述M个入射槽共同占据的范围小于等于180°。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京君和信达科技有限公司,未经北京君和信达科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520096965.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。