[实用新型]一种降低QCL太赫兹源衍射效应及发散角的光束整形装置有效

专利信息
申请号: 201520055086.8 申请日: 2015-01-27
公开(公告)号: CN204462543U 公开(公告)日: 2015-07-08
发明(设计)人: 黎维华;王雪敏;阎大伟;沈昌乐;邓青华;王新明;彭丽萍;赵妍;蒋涛;湛治强;吴卫东 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09
代理公司: 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 代理人: 董芙蓉
地址: 621900*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 降低 qcl 赫兹 衍射 效应 发散 光束 整形 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种降低量子级联激光器(quantum cascade laser,简称为QCL)太赫兹源衍射效应及发散角的光束整形装置。

背景技术

太赫兹(THz)波是指频率从0.1THz到10THz(对应波长从3毫米到30微米),介于毫米波与红外光之间的电磁波,具有安全性、宽带性、“指纹谱特性”和穿透性等特点。THz波具有重要的科学价值和广阔的应用前景,在基础科学、材料研究、生物医学、国家公共安全等多个领域具有独特优势。

太赫兹源通常包括自由电子激光器、工作于太赫兹频段的气体激光器、真空电子学太赫兹源、超快激光泵浦光电导太赫兹源、QCL太赫兹源以及光子学太赫兹源和其他半导体电子学源等。由于QCL太赫兹源不仅具有较高的功率水平,而且具有能量转换效率高、体积小、轻便与易集成等优点,因此被学术界认为是最有可能实现工程化与产业化的一款太赫兹辐射源。

目前,QCL太赫兹源的最高输出功率已达250mW,最高工作温度为186K,最低工作频率为1.2THz,如果外加磁场,最低激射频率可到0.68THz。随着器件性能的不断提高,QCL太赫兹源在成像、通信和外差探测等领域的潜在应用优势越来越明显。

光束质量的好坏是影响器件能否获得实际应用的重要因素之一。QCL太赫兹源由于其谐振波长通常大于器件尺寸,尤其是器件的厚度,使得其输出的光束横截面分布呈现强烈的衍射效应,发散全角通常大于60度。

实用新型内容

为了克服QCL太赫兹源由于输出端孔阑限制带来的强衍射效应,本实用新型在QCL太赫兹源后续的传输光路中加入了光束整形模块,不但可以有效降低QCL太赫兹源由于输出端孔阑限制带来的强衍射效应,而且可以减小光束发散角,获得小发散角近高斯分布光束,这将对QCL太赫兹源的应用研究带来极大的推动作用。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种降低QCL太赫兹源衍射效应及发散角的光束整形装置,所述装置采用光束整形模块,所述模块由多片太赫兹透镜组成,或者由太赫兹透镜与离轴抛物镜混合组成。通过调节光束整形模块光路,获得小发散角近高斯分布光束。

其中,所述光束整形模块选自如下:

所述光束整形模块为第一太赫兹透镜与第二太赫兹透镜组成的太赫兹透镜组。

或,所述光束整形模块为第一太赫兹透镜以及其后面由第一离轴抛物镜与第二离轴抛物镜组成的离轴抛物镜组。

或,所述光束整形模块为第一离轴抛物镜与第二离轴抛物镜组成的离轴抛物镜组以及其后面由第一太赫兹透镜和第二太赫兹透镜组成的太赫兹透镜组。

或,所述光束整形模块为由第一太赫兹透镜和第二太赫兹透镜组成的太赫兹透镜组以及其后面由第一离轴抛物镜与第二离轴抛物镜组成的离轴抛物镜组。

本实用新型的有益效果是,在有效降低QCL太赫兹源由于输出端孔阑限制带来的强衍射效应的同时,可以同步减小光束发散角,获得小发散角近高斯分布光束,这将大大推进QCL太赫兹源的应用研究进程。

附图说明

通过参照附图更详细地描述本实用新型的示例性实施例,本实用新型的以上和其它方面及优点将变得更加易于清楚,在附图中:

图1(a)是本实用新型的第一种结构示意图;

图1(b)是本实用新型的第二种结构示意图。

图1(c)是本实用新型的第三种结构示意图。

图1(d)是本实用新型的第四种结构示意图。

图中a1.QCL太赫兹源,a2.第一太赫兹透镜,a3.第二太赫兹透镜,a4.太赫兹面阵探测器,b1.第一离轴抛物镜,b2.第二离轴抛物镜。

具体实施方式

在下文中,现在将参照附图更充分地描述本实用新型,在附图中示出了各种实施例。然而,本实用新型可以以许多不同的形式来实施,且不应该解释为局限于在此阐述的实施例。相反,提供这些实施例使得本公开将是彻底和完全的,并将本实用新型的范围充分地传达给本领域技术人员。

在下文中,将参照附图更详细地描述本实用新型的示例性实施例。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心,未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520055086.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top