[实用新型]GaN纳米栅线的石墨烯电极太阳能电池有效
申请号: | 201520041666.1 | 申请日: | 2015-01-21 |
公开(公告)号: | CN204315586U | 公开(公告)日: | 2015-05-06 |
发明(设计)人: | 高鹏;郭辉;黄海栗;苗东铭;胡彦飞;张玉明 | 申请(专利权)人: | 中电投西安太阳能电力有限公司 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/04 |
代理公司: | 陕西电子工业专利中心 61205 | 代理人: | 王品华 |
地址: | 710100 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | gan 纳米 石墨 电极 太阳能电池 | ||
1.一种GaN纳米栅线的石墨烯电极太阳能电池,自上而下包括增透膜(1)、栅线层(3)、P型非晶硅层(4)、本征非晶硅层(5)、N型硅衬底(6)和背面电极(7),栅线层(3)的周围设有正面电极(2);该正面电极(2)与栅线连接,且上面设有金属接触电极(8),其特征在于:栅线层(3)由相互交叉堆叠的GaN纳米线构成,正面电极(2)和背面电极(7)采用多层石墨烯材料。
2.根据权利要求1所述的GaN纳米栅线的石墨烯电极太阳能电池,其特征在于:正面电极(2)和背面电极(7)采用的多层石墨烯材料厚度均为100-200nm。
3.根据权利要求1所述的GaN纳米栅线的石墨烯电极太阳能电池,其特征在于:每根GaN纳米线的直径为50-100nm,长度为10-20μm。
4.根据权利要求1所述的GaN纳米栅线的石墨烯电极太阳能电池,其特征在于:所述P型非晶硅层(4)、本征非晶硅层(5)的厚度均为10-15nm。
5.根据权利要求1所述的GaN纳米栅线的石墨烯电极太阳能电池,其特征在于:所述N型硅衬底(6)的厚度为200-400μm。
6.根据权利要求1所述的GaN纳米栅线的石墨烯电极太阳能电池,其特征在于:所述的增透膜(1)采用ITO氧化铟锡透明导电薄膜或TCO氧化物镀膜玻璃。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的