[实用新型]一种喷金溅射仪

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体检测领域，具体涉及一种喷金溅射仪。

背景技术

半导体(比如芯片)在进行检测时，部分半导体的样品因制作等各种原因而出现导电性比较差的现象，严重影响样品的后序检测及观察样品结构，为了解决此问题，半导体的样品在检测前，利用喷金溅射仪在半导体的样品表面镀一层金属膜，从而提高样品的导电性，但现有的喷金溅射仪全部从国外进口，存在着成本高、控制不方便等缺点。

实用新型内容

鉴于目前喷金溅射仪存在的上述不足，本实用新型提供一种能大幅提高样品的导电性、成本低、控制方便的喷金溅射仪。

为达到上述目的，本实用新型采用根据下技术方案：

一种喷金溅射仪，包括腔体，所述腔体的内部设有金靶、溅射头、真空室、倒计时器和样品台，所述腔体的外侧设有操作设备和电源，所述溅射头固定在真空室的顶部，所述真空室的侧面设有溅射气体入口和真空泵连接出口，所述金靶安装在溅射头内，所述样品台位于真空室内部的底部中间，所述样品台通过线路与电源接通，所述操作设备位于样品台与电源之间的线路上，所述金靶通过倒计时器与电源连接。

依照本实用新型的一个方面，所述喷金溅射仪还包括转盘，所述真空室与转盘的顶部进行密封连接，所述样品台固定在转盘的顶部。

依照本实用新型的一个方面，所述样品台固定在转盘顶部的正中间。

依照本实用新型的一个方面，所述真空室为圆形的透明玻璃真空罩。

依照本实用新型的一个方面，所述溅射头与真空室接触处设有溅射口，所述溅射口的位置安装有自动门。

本实用新型的优点：由于本实用新型的腔体的内部设有金靶、溅射头、真空室、倒计时器和样品台，腔体的外侧设有操作设备和电源，溅射头固定在真空室的顶部，金靶安装在溅射头内，样品台位于真空室内部的底部中间，样品台通过线路与电源接通，操作设备位于样品台与电源之间的线路上，便于操作人员对喷金溅射仪的控制，金靶通过倒计时器与电源连接，在电源的阳极与阴极之间使用合适的气体和电压，当真空室出现辉光放电时，金靶在气体离子的轰击下侵蚀样品，溅射出来的金属原子将样品表面形成一层金属薄膜，从而大幅提高样品的导电性，由于真空室的侧面设有溅射气体入口和真空泵连接出口，在保证真空室绝对密封的前提下，简化了喷金溅射仪的结构设计，比如：溅射气体的送入问题、真空室内的真空度大小调节等问题，降低了喷金溅射仪的成本，所以本实用新型的喷金溅射仪能大幅提高样品的导电性、成本低、控制方便。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的一种喷金溅射仪的示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1所示，一种喷金溅射仪，包括腔体11，所述腔体11的内部设有金靶3、溅射头4、真空室10、倒计时器2和样品台8，腔体11的外侧设有操作设备13和电源1，溅射头3固定在真空室10的顶部，真空室10的侧面设有溅射气体入口9和真空泵连接出口6，金靶3安装在溅射头4内，样品台8位于真空室10内部的底部中间，样品台8通过线路12与电源1接通，操作设备13位于样品台8与电源1之间的线路上，金靶3通过倒计时器2与电源1连接。