[实用新型]一种用于密闭反应室的自净化系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及密闭反应设备技术领域，特别涉及一种用于密闭反应室的自净化系统。

背景技术

由于碳化硅特殊的化学和物理性质，其外延工艺要求反应室必须处在一种密闭、无氧、无氮的特殊环境中，在碳化硅外延生长过程中，会不断产生出现细小的颗粒，这些细小颗粒沉积在反应室腔体底部，如果这些细小的颗粒的不能及时有效的清除掉，就会在密闭的腔体内不断积聚，细小颗粒的大量极具将影响下一周期的碳化硅晶片外延生长，导致碳化硅晶片缺陷的增加。

虽然目前的碳化硅外延生长反应室具有有一定的自净化能力，但是而且其净化所花费的时间过于漫长，对细小颗粒的清理效率低，远远不能满足碳化硅外延工艺的需求，直接影响到了生产效率。

因此本实用新型人特别研制出一种能够速有效地清理密闭反应室内细小颗粒的自净化系统，本案由此产生。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于密闭反应室的自净化系统，其应用于碳化硅外延生长的密闭反应室，能够快速有效的清理反应室腔体内的细小颗粒，提高生产效率。

为了实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：

一种用于密闭反应室的自净化系统，密闭反应室包括一个主箱体，主箱体内开设上腔体和下腔体，上腔体与下腔体通过一隔板隔开，隔板上开设一通风孔；主箱体外侧开设送风口和抽风口；自净化系统包括控制箱、过滤箱、风机、送风法兰、抽风法兰和电控风阀；风机安装在隔板下沿并与通风孔对接，主箱体的上腔体顶部与下腔体底部均安装过滤箱；送风法兰安装在主箱体的送风口，抽风法兰内置一电控风阀，抽风法兰安装在主箱体的抽风口，送风法兰与上腔体顶部的过滤箱对应，抽风法兰与下腔体底部的过滤箱对应，抽风法兰与送风法兰通过一管道连接；控制箱内置一变频控制器，控制箱外部设有与变频控制器的电连接的电源指示灯、风机工作指示灯和阀门工作指示灯，控制箱安装在主箱体外部；风机和电控风阀均与变频控制器电连接。

所述控制箱外部还设有与控制器电连接档位工作开关。

所述上腔体顶部安装高效过滤箱，下腔体底部安装中效过滤箱。

所述主箱体一侧还开设上检修门和下检修门，上检修门与上腔体对应，下检修门与下腔体对应。

采用上述方案后，本实用新型通过在密闭反应室内设置风机、在上腔体外部设置送风口及在下腔体外部设置抽风口，启动风机打开电控风阀后，密闭反应室内的气体由上腔体流动到下腔体，再由下腔体进入底部的过滤箱，同时腔内气体流动带动积聚在上腔体底部和下腔体底部的细小颗粒进入过滤箱，过滤后的气体在从送风法兰进入反应室，进入上腔体的气体将经过顶部过滤箱，从而进一步过滤掉细小颗粒，实现密闭反应室的清理，上述过程风机和电控风阀开/关均通过控制箱进行自动化控制；本实用新型的自净化系统可对密闭反应室内的细小颗粒进行快速有效清理，操作简单，清理程序高效，成本低廉。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型的立体结构示意图；

图2是本实用新型正视图；

图3是本实用新型侧视图；

图4是本实用新型侧视图。

标号说明

主箱体1，上腔体11，下腔体12，隔板13，送风口14，抽风口15，控制箱2，电源指示灯21，风机工作指示灯22，阀门工作指示灯23，档位工作开关24，送风法兰3，抽风法兰4，电控风阀5，上检修门61，下检修门62，高效过滤箱71，中效过滤箱72，风机8。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。