[发明专利]电磁波屏蔽复合膜

权利要求书

1.一种电磁波屏蔽复合膜，其特征在于，包含：

一入射层，其包含一导电填充材料，其中所述导电填充材料为一石墨烯；

一吸波层，其设置于所述入射层的一侧上；以及

一反射层，其设置于所述吸波层上，以夹置所述吸波层于所述入射层与所述反射层之间，其中所述吸波层的电阻值高于所述反射层的电阻值，所述电磁波屏蔽 复合膜的厚度是5.04微米至25.6微米，而且所述入射层会导引电磁波进入所述吸波层与所述反射层。

2.如权利要求1所述的电磁波屏蔽复合膜，其特征在于，其中所述吸波层的材料选自由金、银、铜、铁、锡、铅、鈷、铬、铝、镍及其合金所组群组中的至少一个。

3.如权利要求1所述的电磁波屏蔽复合膜，其特征在于，其中所述吸波层的厚度为0.02微米至0.3微米。

4.如权利要求1所述的电磁波屏蔽复合膜，其特征在于，其中所述反射层的材料选自由金、银、铜、铁、锡、铅、鈷、铬、铝、镍及其合金所组群组中的至少一个。

5.如权利要求1所述的电磁波屏蔽复合膜，其特征在于，其中所述反射层的厚度为0.02微米至0.3微米。

6.如权利要求1所述的电磁波屏蔽复合膜，其特征在于，其中所述石墨烯为至少一单层石墨烯、至少一多层石墨烯或其混合。

7.如权利要求1所述的电磁波屏蔽复合膜，其特征在于，其中所述石墨烯的平均厚度为0.2纳米至300纳米。

8.如权利要求1所述的电磁波屏蔽复合膜，其特征在于，其中所述导电填充材料的含量为所述入射层总重量的0.5至80重量百分比。

9.如权利要求1所述的电磁波屏蔽复合膜，其特征在于，其中所述入射层更包含一高分子材料，且所述导电填充材料披覆于所述高分子材料上或混掺于所述高分子材料中。

10.如权利要求9所述的电磁波屏蔽复合膜，其特征在于，其中所述高分子材料选自由聚烯亚胺(PI)、聚乙烯(PE)、环氧树脂(Epoxy)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯(PP)、双马来醯亚胺(BMI) 及压克力系高分子所组群组中的至少一个。

11.如权利要求1所述的电磁波屏蔽复合膜，其特征在于，其中所述入射层的厚度为5微米至25微米。

12.如权利要求1所述的电磁波屏蔽复合膜，其特征在于，还包含：一离型膜，其设置于所述入射层的另一侧上，且所述入射层位于所述离型膜与所述吸波层之间。

13.如权利要求1所述的电磁波屏蔽复合膜，其特征在于，还包含：一绝缘层，其设置于所述反射层上，且所述反射层位于所述绝缘层与所述吸波层之间。

14.如权利要求13所述的电磁波屏蔽复合膜，其特征在于，还包含：一转写膜，其设置于所述绝缘层上，且所述绝缘层位于所述转写膜与所述反射层之间。