[发明专利]一种镀膜膜厚监测方法

权利要求书

1.一种镀膜膜厚监测方法，其特征在于，包括：在挡板（1）上设有通孔（2），第一晶振（3）与第二晶振（4）的监测位置相同，通孔处设为监测位置，第一晶振在监测位置被镀膜时，遮挡第二晶振；当第一晶振被镀膜到一定的厚度后，第一晶振被移离而第二晶振被移到监测位置，对膜厚进行连续监测。

2.如权利要求1所述的镀膜膜厚监测方法，其特征在于，所述第一晶振位于第二晶振左侧，当第一晶振被镀膜到一定厚度后，两个晶振被同时移向左侧，第二晶振在通孔处被镀膜，开始对膜厚进行监测，而第一晶振被遮挡并停止工作。

3.如权利要求2所述的镀膜膜厚监测方法，其特征在于，所述通孔尺寸与所述第一晶振或第二晶振相对应。