[发明专利]用于制造具有结构化涂层的玻璃陶瓷件的方法在审
| 申请号: | 201510926160.3 | 申请日: | 2015-12-14 |
| 公开(公告)号: | CN105693109A | 公开(公告)日: | 2016-06-22 |
| 发明(设计)人: | F·瓦格纳;H·瓦尔德施米特 | 申请(专利权)人: | 肖特股份有限公司 |
| 主分类号: | C03C23/00 | 分类号: | C03C23/00 |
| 代理公司: | 北京思益华伦专利代理事务所(普通合伙) 11418 | 代理人: | 赵飞;郭红丽 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 制造 具有 结构 涂层 玻璃 陶瓷 方法 | ||
1.一种用于制造具有结构化涂层的玻璃陶瓷件的方法,所述方法具有下述步骤:
-提供一种玻璃陶瓷件(1),其具有在可见光谱范围内至少局部阻挡光线、优选不透明 的涂层,
-通过脉冲式的激光射束照射所述玻璃陶瓷件(1),从而通过消融而去除所述涂层(5), 其中
-在照射过程中,将所述激光射束在所述玻璃陶瓷件(1)的表面上移动,从而去除所述 涂层(5)的一个区域,以及
-在去除所述涂层(5)之后,通过同一个激光器(7)在去除了所述涂层(5)的区域中这样 照射所述玻璃陶瓷,即,在经照射的区域中对所述玻璃陶瓷光学改性。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,通过脉冲式的激光射束在所述玻璃陶瓷件 (1)的设有所述涂层(5)的侧面上对玻璃陶瓷件(1)进行照射,优选地,使用波长小于800nm 的激光辐射。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,使用脉冲持续时间小于1000ps、优选小于 200ps、特别优选小于20ps的脉冲式的激光辐射。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,通过所述激光器(7)的所述照射降低所述 玻璃陶瓷的透光度来对所述玻璃陶瓷进行光学改性,优选地,在照射所述玻璃陶瓷(2)的过 程中使激光强度保持在所述玻璃陶瓷(2)的消融界限以下。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,在降低所述玻璃陶瓷(2)的所述透光度的 过程中,所述激光器(7)的焦平面到所述玻璃陶瓷件(1)的表面的相对距离在2至10mm范围 内、优选在4至8mm范围内,和/或所述焦平面位于提供的所述玻璃陶瓷件(1)的表面上方或 下方。
6.根据上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,使用由着色的金属离子整体 着色的玻璃陶瓷,并且在去除了所述涂层(5)之后,通过所述激光器(7)在去除了所述涂层 (5)的区域中以此方式照射所述玻璃陶瓷,使得在照射的区域中通过降低吸收系数对所述 玻璃陶瓷光学改性。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,激光的功率密度选择为,局部加热所述玻 璃陶瓷板的经照射的区域,其中
-至少加热至,在经加热区域的体积中在380纳米和780纳米光波长之间的可见光谱范 围内的至少一个光谱范围中提高玻璃陶瓷材料的透射度,并且
-在加热之后,终止激光照射并且对经照射的区域进行冷却。
8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,在去除了所述涂层(5)的一个 区域之后,使所述激光射束(71)聚焦在所述玻璃陶瓷(2)的内部并且通过在所述玻璃陶瓷 (2)中生成点状的光散射缺陷(23)而在经照射的区域中对所述玻璃陶瓷(2)光学改性,其中 优选在所述玻璃陶瓷(2)的内部的脉冲强度超过消融界限,而所述玻璃陶瓷表面上的脉冲 强度保持在所述消融界限以下。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,在去除了所述涂层(5)之后, 消融所述玻璃陶瓷(2)的表面。
10.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,通过消融在所述玻璃陶瓷件 (1)的有结节的侧面上去除所述涂层(5)。
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