[发明专利]光罩清洗装置

权利要求书

1.一种光罩清洗装置，其特征在于，其至少包含有：

一机体；

一设于机体的湿式清洁模块及一设于机体中湿式清洁模块后方的干式清洁模块；

所述的湿、干式清洁模块分别具有至少一擦拭机构，该至少一擦拭机构具有一立设于机体的立板，且该立板上分别设有一置料卷轮及一收料卷轮，供同步自动收、放一无尘布条的两端卷收，又该立板在置料卷轮与收料卷轮之间设有复数转折轮，供无尘布条在移动过程中能够经过擦拭机构上缘处，立板在上方两转折轮之间设有一顶缘高于两侧的贴抵轮，供无尘布条形成较高的擦拭部分；

其中湿式清洁模块的擦拭机构在无尘布条相对贴抵轮的进料端设有一供喷洒清洁液体的喷液机构，供选择性对经过的无尘布条进行清洁液喷洒；

如此，供光罩能够依序相对湿式清洁模块及干式清洁模块进行直接擦拭，而构成一能迅速、且有效清洁的光罩清洗装置；

其中，该湿、干式清洁模块分别具有两相对的擦拭机构，供分别清洁光罩护膜的两侧下方的相对表面；

其中，该擦拭机构的贴抵轮设于一顶升组上，该顶升组是在立板上设有一第一伸缩缸组，且该第一伸缩缸组能够驱动一供设置贴抵轮的轮座升降；

其中，该擦拭机构在立板对应贴抵轮的两侧分设有一夹压定位组，该夹压定位组在对应无尘布条下方设有一定位板，该定位板上形成有一对应无尘布条宽度、且深度小于无尘布条厚度的定位槽，夹压定位组在对应无尘布条上方设有一由一第二伸缩缸组驱动的压板，使无尘布条在擦拭时能被有效固定位置，且当无尘布条被拉动时能沿着固定路径位移，避免因晃动而位移。

2.根据权利要求1所述的光罩清洗装置，其特征在于：该擦拭机构的置料卷轮与收料卷轮于立板上分设有一第一驱动件与一第二驱动件，以作为置料卷轮与收料卷轮同步正逆转的放料及收料之用。

3.根据权利要求1所述的光罩清洗装置，其特征在于：该擦拭机构的立板在置料卷轮的出料端设有一第一张撑轮组，且该收料卷轮的入料端设有一第二张撑轮组，使无尘布条于放料及收料时可保持平整、顺畅。

4.根据权利要求1所述的光罩清洗装置，其特征在于：该立板邻近上缘于无尘布条相对贴抵轮的移动前方设有一滚揉轮组，该滚揉轮组具有一具有第三驱动件的滚轮，供带动无尘布条，且滚轮一侧设有一可选择性改变压力的挤压轮，供整平经过的无尘布条，且湿式清洁模块的滚揉轮组能够进一步挤压含有水分的无尘布条，使无尘布条上的水分能分散均匀、且挤出多余水分。

5.根据权利要求4所述的光罩清洗装置，其特征在于：该湿式清洁模块的擦拭机构的喷液机构具有一可选择性对经过无尘布条进行清洁液喷洒的喷水管，喷液机构在无尘布条下方设有一回收组，供回收经滚揉轮组挤压的多余清洁液。

6.根据权利要求1所述的光罩清洗装置，其特征在于：该湿式清洁模块的擦拭机构的喷液机构具有一可选择性对经过无尘布条进行清洁液喷洒的喷水管。