[发明专利]同轴抛物面的反射式纹影仪光学系统

权利要求书

1.一种同轴抛物面的反射式纹影仪光学系统，包括沿光路依次设置的光源（1）、狭缝（2）、准直反射镜（3）、聚焦反射镜（4）、刀口（5）及探测器（6），待测流场（7）位于所述准直反射镜（3）与所述聚焦反射镜（4）之间，其特征在于，

所述光源（1）发射出的光线经所述狭缝（2）匀光滤光后照射至所述准直反射镜（3），经所述准直反射镜（3）后变换为平行光线，光线经过所述待测流场（7）受其扰动影响后传播至所述聚焦反射镜（4）汇聚，汇聚后的光线经过所述刀口（5）后在所述探测器（6）成像，其中，所述准直反射镜（3）和所述聚焦反射镜（4）采用同轴抛物面的面形结构。

2.根据权利要求1所述的同轴抛物面的反射式纹影仪光学系统，其特征在于，

所述狭缝（2）用于将所述光源（1）照射的光束分成四个窄带光斑并滤光。

3.根据权利要求1所述的同轴抛物面的反射式纹影仪光学系统，其特征在于，

所述光源（1）和所述狭缝（2）采用LED或者激光直接在狭缝位置作为窄带光源照明代替。

4.根据权利要求1所述的同轴抛物面的反射式纹影仪光学系统，其特征在于，

所述准直反射镜（3）和所述聚焦反射镜（4）采用倾斜使用的旋转对称的同轴抛物镜，两个抛物镜的面形相同，凹面相对，倾斜方向相同，倾斜角度相同。