[发明专利]反渗透膜元件的清洗方法在审

专利信息
申请号: 201510771337.7 申请日: 2015-11-12
公开(公告)号: CN105214507A 公开(公告)日: 2016-01-06
发明(设计)人: 宋雁飞 申请(专利权)人: 师宗煤焦化工有限公司
主分类号: B01D65/06 分类号: B01D65/06
代理公司: 昆明正原专利商标代理有限公司 53100 代理人: 徐玲菊;蒋文睿
地址: 655700 云*** 国省代码: 云南;53
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 反渗透 元件 清洗 方法
【权利要求书】:

1.一种反渗透膜元件的清洗方法,其特征在于经过下列各步骤:

(1)将待清洗的膜元件用非氧化性杀菌剂浸泡12~24小时;

(2)将步骤(1)浸泡后的膜元件用清洗剂进行常规封闭循环清洗60分钟,并排出清洗剂出液,在清洗过程中控制清洗剂通过膜元件的压力为0.2MPa、流量为50m3/h;

(3)将步骤(2)清洗后的膜元件用除盐水冲洗,直至冲洗出水的pH=6~9;

(4)以除盐水为溶剂配制含有下列质量浓度组分的碱性清洗液:十二烷基苯磺酸钠0.1%、氢氧化钠0.1%、乙二胺四乙酸四钠盐1.0%、三聚磷酸钠0.1%;该碱性清洗液的pH=11.5;

(5)将步骤(3)冲洗后的膜元件用步骤(4)所配制的碱性清洗液进行常规封闭循环清洗60分钟,并排出碱性清洗液出液,在清洗过程中控制碱性清洗液通过膜元件的压力为0.2MPa、流量为50m3/h;

(6)将步骤(5)清洗后的膜元件用除盐水冲洗,直至冲洗出水的pH=6~9,即完成反渗透膜元件的清洗。

2.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于:所述步骤(1)的待清洗的膜元件是反渗透水处理后受细菌、有机物污染的膜元件。

3.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于:所述步骤(1)的非氧化性杀菌剂是将异噻唑啉酮以除盐水为溶剂稀释至浓度为5~6wt%的溶液。

4.根据权利要求3所述的清洗方法,其特征在于:所述异噻唑啉酮为市购产品,其产品活性物含量为12~13%。

5.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于:所述步骤(2)的清洗剂是在非氧化性杀菌剂中加入浓度为30wt%的盐酸溶液直至pH=2~3时所得溶液。

6.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于:所述步骤(2)的封闭循环清洗是每15分钟监测一次清洗剂,pH值不合格时用浓度为30wt%的盐酸溶液调整至pH=2~3;当清洗剂浑浊时,需整体更换清洗剂。

7.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于:所述步骤(5)的封闭循环清洗是每15分钟监测一次碱性清洗液,pH值不合格时用浓度为99wt%的氢氧化钠溶液调整至pH=11.5;当碱性清洗液浑浊时,需整体更换碱性清洗液。

8.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于:所述步骤(2)的清洗剂出液、步骤(3)的冲洗出水、步骤(5)的碱性清洗液出液和步骤(6)的冲洗出水均排放至中和池中混合,再输送至水净化车间做循环利用。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于师宗煤焦化工有限公司,未经师宗煤焦化工有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510771337.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top