[发明专利]反渗透膜元件的清洗方法在审
申请号: | 201510771337.7 | 申请日: | 2015-11-12 |
公开(公告)号: | CN105214507A | 公开(公告)日: | 2016-01-06 |
发明(设计)人: | 宋雁飞 | 申请(专利权)人: | 师宗煤焦化工有限公司 |
主分类号: | B01D65/06 | 分类号: | B01D65/06 |
代理公司: | 昆明正原专利商标代理有限公司 53100 | 代理人: | 徐玲菊;蒋文睿 |
地址: | 655700 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反渗透 元件 清洗 方法 | ||
1.一种反渗透膜元件的清洗方法,其特征在于经过下列各步骤:
(1)将待清洗的膜元件用非氧化性杀菌剂浸泡12~24小时;
(2)将步骤(1)浸泡后的膜元件用清洗剂进行常规封闭循环清洗60分钟,并排出清洗剂出液,在清洗过程中控制清洗剂通过膜元件的压力为0.2MPa、流量为50m3/h;
(3)将步骤(2)清洗后的膜元件用除盐水冲洗,直至冲洗出水的pH=6~9;
(4)以除盐水为溶剂配制含有下列质量浓度组分的碱性清洗液:十二烷基苯磺酸钠0.1%、氢氧化钠0.1%、乙二胺四乙酸四钠盐1.0%、三聚磷酸钠0.1%;该碱性清洗液的pH=11.5;
(5)将步骤(3)冲洗后的膜元件用步骤(4)所配制的碱性清洗液进行常规封闭循环清洗60分钟,并排出碱性清洗液出液,在清洗过程中控制碱性清洗液通过膜元件的压力为0.2MPa、流量为50m3/h;
(6)将步骤(5)清洗后的膜元件用除盐水冲洗,直至冲洗出水的pH=6~9,即完成反渗透膜元件的清洗。
2.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于:所述步骤(1)的待清洗的膜元件是反渗透水处理后受细菌、有机物污染的膜元件。
3.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于:所述步骤(1)的非氧化性杀菌剂是将异噻唑啉酮以除盐水为溶剂稀释至浓度为5~6wt%的溶液。
4.根据权利要求3所述的清洗方法,其特征在于:所述异噻唑啉酮为市购产品,其产品活性物含量为12~13%。
5.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于:所述步骤(2)的清洗剂是在非氧化性杀菌剂中加入浓度为30wt%的盐酸溶液直至pH=2~3时所得溶液。
6.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于:所述步骤(2)的封闭循环清洗是每15分钟监测一次清洗剂,pH值不合格时用浓度为30wt%的盐酸溶液调整至pH=2~3;当清洗剂浑浊时,需整体更换清洗剂。
7.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于:所述步骤(5)的封闭循环清洗是每15分钟监测一次碱性清洗液,pH值不合格时用浓度为99wt%的氢氧化钠溶液调整至pH=11.5;当碱性清洗液浑浊时,需整体更换碱性清洗液。
8.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于:所述步骤(2)的清洗剂出液、步骤(3)的冲洗出水、步骤(5)的碱性清洗液出液和步骤(6)的冲洗出水均排放至中和池中混合,再输送至水净化车间做循环利用。
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