[发明专利]一种铜基亚氧化钛电极板的制备方法在审
申请号: | 201510716682.0 | 申请日: | 2015-10-30 |
公开(公告)号: | CN105297073A | 公开(公告)日: | 2016-02-03 |
发明(设计)人: | 周生刚;郭晓亮;曹勇;张能锦;牛永胜;许健;张俊;竺培显 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
主分类号: | C25B11/04 | 分类号: | C25B11/04;C23C4/134;C23C4/11;C25C7/02;H01M4/16;H01M4/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 650093 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 铜基亚 氧化 极板 制备 方法 | ||
1.一种铜基亚氧化钛电极板,其特征在于:所述铜基亚氧化钛电极板由铜金属板载体和处于铜金属板表面的亚氧化钛薄膜,亚氧化钛薄膜的主要成分为Ti4O7、TiO2,Ti4O7含量不低于亚氧化钛薄膜总质量的50%。
2.根据权利要求1所述铜基亚氧化钛电极板,其特征在于:所述亚氧化钛的薄膜厚度为70~150μm。
3.权利要求1或2所述铜基亚氧化钛电极板的制备方法,其特征在于,具体包括以下步骤:
(1)对铜金属板载体进行清洗、喷砂处理;
(2)在铜基载体表面采用等离子喷涂法制备亚氧化钛薄膜,将Ti4O7粉末熔化后喷涂到铜金属板载体表面上得到高导电性的亚氧化钛薄膜。
4.根据权利要求3所述的铜基亚氧化钛电极板的制备方法,其特征在于:步骤(1)所述喷砂处理中砂的粒度为100~500μm。
5.根据权利要求3所述的铜基亚氧化钛电极板的制备方法,其特征在于:步骤(2)中等离子喷涂法中:保护气为氩气和氮气,氮气流速为1800~2000L/h,氩气流速为1800~2000L/h,喷涂功率为32~36kW,送粉电位为12~16V,喷涂距离为10~14cm,喷射角为90°。
6.根据权利要求3所述的铜基亚氧化钛电极板的制备方法,其特征在于:步骤(2)中所述Ti4O7粉末的粒度为1~100μm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明理工大学,未经昆明理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510716682.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种高电压制备大孔间距多孔阳极氧化铝膜的方法
- 下一篇:无磷水基金属清洗剂