[发明专利]一种掩模板的检修方法在审
| 申请号: | 201510685461.1 | 申请日: | 2015-10-20 |
| 公开(公告)号: | CN105182684A | 公开(公告)日: | 2015-12-23 |
| 发明(设计)人: | 井杨坤;孙跃;王婷婷;王婷婷 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G03F1/72 |
| 代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 模板 检修 方法 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩模板的检修方法。
背景技术
近年来,ODF(oneDropFilling,简称液晶滴注制程)已经成为LCD(LiquidCrystalDisplay,简称液晶显示器)行业中具有代表性的尖端技术。ODF制程是将玻璃基板配向后直接涂布封框胶,接着滴入液晶,然后在减压下进行对位、贴合形成液晶显示面板,再将封框胶先以UV(紫外光)光固化,最后做热硬化并同时重排液晶,最后再切割面板。ODF制程与传统制程相比,不仅大幅度缩短了液晶的注入时间,而且简化了制作过程并减少了液晶用量。
在ODF制程中UV固化工序尤为重要,而UV固化工序中对掩模板的要求极其严格。要求掩模板上的金属镀层不能有破损,一旦发生破损,光线会照射到液晶显示面板的显示区域(AA区域),进而引起相关的不良现象,如残像、Mura(一种画面品质不良)等问题。
现有技术中若掩模板发生金属镀层脱落,则需要立即更换掩模板,而掩模板的制造周期比较长,这样就影响了生产效率且增加了生产成本。
发明内容
本发明的实施例提供一种掩模板的检修方法,可延长掩模板的使用寿命,避免生产成本增加,提高生产效率。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
一种掩模板的检修方法,包括:确定掩模板的金属镀层的异常位置,并确定所述异常位置的坐标;对所述异常位置涂覆修复胶,以使涂胶平面与所述掩模板的正常金属镀层的平面齐平;其中,所述修复胶包括金属材料;对所述修复胶进行固化。
优选的,对所述异常位置涂覆修复胶,包括:对所述异常位置的异常程度进行判断,若所述异常程度大于预设值,则对所述异常位置涂覆修复胶。
进一步优选的,对所述异常位置的异常程度进行判断,若所述异常程度大于预设值,则对所述异常位置涂覆修复胶,包括:
当所述异常位置位于所述金属镀层的非边缘区域时,对所述异常位置的所述金属镀层厚度进行判断,相对所述掩模板的正常金属镀层,若所述异常位置的所述金属镀层缺失的厚度大于预设值,则对所述异常位置涂覆修复胶;
当所述异常位置位于所述金属镀层的边缘区域时,对所述异常位置的宽度进行判断,若所述异常位置的宽度大于预设值,则对所述异常位置涂覆修复胶。
优选的,对所述异常位置涂覆修复胶,包括:利用步进式点胶机找到所述异常位置的坐标,对所述异常位置涂覆修复胶。
优选的,对所述修复胶进行固化,包括:将涂覆修复胶后的掩模板放入紫外光固化设备进行固化。
优选的,确定掩模板的金属镀层异常位置,并确定所述异常位置的坐标,包括:利用红外探测器和光学成像物镜接收所述掩模板的红外辐射能量,获得红外热像图,以获得所述掩模板的温度分布场信息;根据所述掩模板的温度分布场信息,确定掩模板的异常位置,并确定所述异常位置的坐标。
优选的,确定掩模板的金属镀层异常位置,并确定所述异常位置的坐标,包括:利用所述掩模板对液晶显示面板的封框胶进行固化,并利用位于液晶显示面板下方的光强感知装置,判断所述液晶显示面板的显示区域是否有漏光,若有,则确定掩模板的异常位置,并确定所述异常位置的坐标。
进一步优选的,所述方法还包括:停止利用所述掩模板对液晶显示面板的封框胶进行固化。
优选的,在确定掩模板的异常位置之后,对所述异常位置涂覆修复胶之前,对所述掩模板进行清洗,并吹干。
基于上述,优选的,所述修复胶中的金属材料与所述掩模板的金属镀层的材料相同。
本发明实施例提供了一种掩模板的检修方法,通过对异常掩模板进行修复,延长了掩模板的使用寿命,避免了异常掩模板被直接换掉而造成的生产成本增加。此外,采用本发明实施例的检修方法可以快速的对异常掩模板进行修复,相对现有技术中更换掩模板后需要较长时间的制造周期,本发明实施例可以提高生产效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种掩模板的检修方法的流程示意图;
图2为本发明实施例提供的一种标准掩模板的结构示意图;
图3a为本发明实施例提供的一种异常掩模板的结构示意图;
图3b为图3a中AA向剖视示意图;
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





