[发明专利]一种掩模板的检修方法在审
| 申请号: | 201510685461.1 | 申请日: | 2015-10-20 |
| 公开(公告)号: | CN105182684A | 公开(公告)日: | 2015-12-23 |
| 发明(设计)人: | 井杨坤;孙跃;王婷婷;王婷婷 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G03F1/72 |
| 代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 模板 检修 方法 | ||
1.一种掩模板的检修方法,其特征在于,包括:
确定掩模板的金属镀层的异常位置,并确定所述异常位置的坐标;
对所述异常位置涂覆修复胶,以使涂胶平面与所述掩模板的正常金属镀层的平面齐平;其中,所述修复胶包括金属材料;
对所述修复胶进行固化。
2.根据权利要求1所述的掩模板的检修方法,其特征在于,对所述异常位置涂覆修复胶,包括:
对所述异常位置的异常程度进行判断,若所述异常程度大于预设值,则对所述异常位置涂覆修复胶。
3.根据权利要求2所述的掩模板的检修方法,其特征在于,对所述异常位置的异常程度进行判断,若所述异常程度大于预设值,则对所述异常位置涂覆修复胶,包括:
当所述异常位置位于所述金属镀层的非边缘区域时,对所述异常位置的所述金属镀层厚度进行判断,相对所述掩模板的正常金属镀层,若所述异常位置的所述金属镀层缺失的厚度大于预设值,则对所述异常位置涂覆修复胶;
当所述异常位置位于所述金属镀层的边缘区域时,对所述异常位置的宽度进行判断,若所述异常位置的宽度大于预设值,则对所述异常位置涂覆修复胶。
4.根据权利要求1所述的掩模板的检修方法,其特征在于,对所述异常位置涂覆修复胶,包括:
利用步进式点胶机找到所述异常位置的坐标,对所述异常位置涂覆修复胶。
5.根据权利要求1所述的掩模板的检修方法,其特征在于,对所述修复胶进行固化,包括:
将涂覆修复胶后的掩模板放入紫外光固化设备进行固化。
6.根据权利要求1所述的掩模板的检修方法,其特征在于,确定掩模板的金属镀层异常位置,并确定所述异常位置的坐标,包括:
利用红外探测器和光学成像物镜接收所述掩模板的红外辐射能量,获得红外热像图,以获得所述掩模板的温度分布场信息;
根据所述掩模板的温度分布场信息,确定掩模板的异常位置,并确定所述异常位置的坐标。
7.根据权利要求1所述的掩模板的检修方法,其特征在于,确定掩模板的金属镀层异常位置,并确定所述异常位置的坐标,包括:
利用所述掩模板对液晶显示面板的封框胶进行固化,并利用位于液晶显示面板下方的光强感知装置,判断所述液晶显示面板的显示区域是否有漏光,若有,则确定掩模板的异常位置,并确定所述异常位置的坐标。
8.根据权利要求7所述的掩模板的检修方法,其特征在于,所述方法还包括:停止利用所述掩模板对液晶显示面板的封框胶进行固化。
9.根据权利要求1-8任一项所述的掩模板的检修方法,其特征在于,在确定掩模板的异常位置之后,对所述异常位置涂覆修复胶之前,对所述掩模板进行清洗,并吹干。
10.根据权利要求1-8任一项所述的掩模板的检修方法,其特征在于,所述修复胶中的金属材料与所述掩模板的金属镀层的材料相同。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





