[发明专利]一种能吸收氢气的高分子复合薄膜及其制备方法在审
申请号: | 201510673143.3 | 申请日: | 2015-10-13 |
公开(公告)号: | CN105153449A | 公开(公告)日: | 2015-12-16 |
发明(设计)人: | 邢涛;陶萍;张凯;吴菊英 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院总体工程研究所 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C08L83/07;C08K9/12;C08K3/08;C08G77/20;C08G77/12 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 谢敏 |
地址: | 621000*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 吸收 氢气 高分子 复合 薄膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种能吸收氢气的高分子复合薄膜的制备方法,其特征在于,将聚硅氧烷树脂溶解于烃类物质中,再和贵金属或负载有贵金属的载体混合均匀后加入催化剂固化压制成膜,所述聚硅氧烷树脂为侧链同时含有乙烯基和硅氢的低分子量聚硅氧烷,具体结构为:
或者侧链含有乙烯基的聚硅氧烷a和侧链含有硅氢的聚硅氧烷b的混合物,聚硅氧烷a和聚硅氧烷b的结构如下:
贵金属可以为Pd、Pt、Rh,催化剂为含有Pt(0)的溶液或者粉末。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述固化时间为2-3天,固化温度为室温。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,聚硅氧烷树脂的制备为:以环硅氧烷为单体,在开环聚合引发剂的作用下引发聚合,于室温反应5-20小时,得到低分子量的含有乙烯基和硅氢的聚硅氧烷或侧链含有乙烯基的聚硅氧烷a和侧链含有硅氢的聚硅氧烷b。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述的环硅氧烷单体可以为
中的任意比例组合。
5.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,开环聚合引发剂可以为硫酸或者三氟甲磺酸。
6.根据权利要求1-5任一项所述的制备方法,其特征在于,负载有贵金属的载体为活性炭或者硫酸钡、碳酸钙以及氧化铝的无机粉体材料。
7.如权利要求6所述的制备方法得到的能吸收氢气的高分子复合薄膜。
8.如权利要求7所述的能吸收氢气的高分子复合薄膜,其特征在于,高分子复合薄膜的厚度为0.2mm。
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