[发明专利]一种阵列基板及显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及显示装置。

背景技术

目前扇出区(fanout)布线跨度较大，在由驱动IC向两侧布线的时候，由于像素单元的位置不同，导致fanout布线中每条扇出走线长度可能不同，形成电阻差异，从而导致各扇出走线上的信号延迟差异而使信号不均一，进而影响画面显示的均一性；现有技术中可以通过增加扇出走线长度的方式将所有扇出走线的长度调整为近乎相等，从而减少电阻差异，但是需要较大的布线空间，影响窄边框的设计。

发明内容

本发明实施例提供一种阵列基板及显示装置，用以在保证窄边框的基础上解决现有技术中存在的扇出走线上信号延时存在差异的问题。

本发明实施例采用以下技术方案：

一种阵列基板，包括显示区域和非显示区域，其中，所述阵列基板的非显示区域设置有多条不同长度的扇出走线，所述阵列基板的非显示区域还包括：

与所述扇出走线异层设置的电容补偿膜层，其中，所述电容补偿膜层与每条扇出走线的正对面积按照所述扇出走线的长度由大至小的顺序逐渐增大。

本方案利用电容补偿膜层与每条扇出走线之间的正对面积形成不同的补偿电容，对于长度较长的扇出走线，与电容补偿膜层的正对面积相对较小，即补偿电容较小，对于长度较短的扇出走线，与电容补偿膜层的正对面积相对较大，即补偿电容较大，这样，才能保证长度较长的扇出走线的电阻与其对应的较小的补偿电容的乘积与长度较短的扇出走线的电阻与其对应的较大的补偿电容的乘积近乎相等，减小电阻差异，从而，使得每个扇出走线的电阻与其对应的补偿电容的乘积近乎相等，即保证RC值近乎相等，改善扇出走线信号不均一的问题，进而改善画面显示均一性。

优选地，所述电容补偿膜层与每条扇出走线的正对面积与相应扇出走线的长度呈反比例关系。

该方案可使得每个扇出走线的电阻与相应电容乘积相等。

优选地，所述多条扇出走线中长度最长的扇出走线为参考扇出走线，所述电容补偿膜层与所述多条扇出走线中长度最长的扇出走线的正对面积的取值范围为:8μm²-12μm²。

在该方案中，以最长的扇出走线的正对面积确定反比例关系中的比例系数，可以尽可能减小电容补偿膜层的覆盖面积，进而，减小补偿电容，保证较小的信号延迟。

优选地，所述电容补偿膜层的部分边缘具有锯齿状图案。

该方案中的电容补偿膜层具有锯齿状图案，从而保证形成的补偿电容较稳定。

优选地，所述电容补偿膜层在所述阵列基板上的正投影仅覆盖所述扇出走线，且图案连续。

该方案中的电容补偿膜层的形状可以保证形成的补偿电容更为精确。

优选地，所述电容补偿膜层的材料为透明导电氧化物。

在该方案中，透明导电氧化物为阵列基板中常用材质，可以更好的形成补偿电容。

优选地，所述阵列基板的显示区域设置有公共电极层；所述电容补偿膜层与所述公共电极层同层设置，同一次工艺形成；或

所述阵列基板的显示区域设置有像素电极层，所述电容补偿膜层与所述像素电极层同层设置，同一次工艺形成。

在该方案中，将电容补偿膜层与公共电极层或像素电极层同层设置，从而，避免了额外制备膜层作为电容补偿膜层的操作。

优选地，所述电容补偿膜层的材料为金属或合金。

在该方案中，金属与合金为阵列基板中常用材质，可以更好的形成补偿电容。

优选地，所述阵列基板的显示区域异层设置有源漏层和栅线；其中，所述扇出走线与源漏层同层设置，同一次工艺形成；所述电容补偿膜层与栅线同层设置，同一次工艺形成；或者

所述扇出走线与所述栅线同层设置，同一次工艺形成；所述电容补偿膜层与源漏层同层设置，同一次工艺形成。

在该方案中，将电容补偿膜层与源、漏极或栅线同层设置，从而，避免了额外制备膜层作为电容补偿膜层的操作。

一种显示装置，包含所述的阵列基板。

由于该显示装置包含上述阵列基板，因此能够很好的改善信号不均一的问题，进而改善画面显示均一性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；