[发明专利]单个纳米颗粒粒径的测量方法

说明书

技术领域

本发明涉及光学测量领域，特别是利用暗场散射强度测量纳米颗粒，用于单个纳米颗粒粒径快速测量的测量系统及测量方法。

背景技术

由于金属纳米颗粒具有纳米量级的粒径，使其具有很多特殊效应，如小尺寸效应、表面效应、量子效应、以及宏观量子隧道效应等，从而使其光、电、声、热和其它物理特性表现出与传统块体材料截然不同的特殊性质。而金属纳米颗粒的很多特性均与其粒径大小有密切关系，因此对金属纳米颗粒粒径的测量和表征有重要的科学研究和实用意义。

目前用于金属纳米颗粒粒径测量的主要方法是显微成像法和散射度量法。其中，显微成像法是应用某种显微成像技术对纳米颗粒直接成像，进而在其显微图像上直接测量颗粒尺寸的方法。显微成像法可以对单个金属纳米颗粒的粒径进行精确测量，但需要复杂昂贵的仪器设备，且具有测量速度慢、效率低等缺点；有散射度量法又主要有分为动态光散射法、小角度X射线散射法、散射光谱法等。散射度量法可以快速测得大样品量纳米颗粒的尺寸及其分布，但无法对单个颗粒进行测量。

在实际应用中，人们希望实现对单个纳米颗粒进行快速测量，但目前的方法还不能很好地满足这种需求。

发明内容

综上所述，确有必要提供一类仪器和测量成本相对较低、操作简单、测量速度快的、可以对单个金属纳米颗粒粒径快速测量的测量装置及方法。

一种单个纳米颗粒粒径的测量方法，包括以下步骤：

提供一种单个纳米颗粒粒径的测量系统，包括一光源，一暗场聚光器模组，一载物台，一物镜，一凸透镜，一CCD及其控制器，一数据线以及一显示及处理单元依次间隔设置，其中，所述光源发出的单色光经过暗场聚光器模组整形后成为中空光锥，照射到载物台上并产生散射光，散射光经过物镜，凸透镜，最终在CCD及其控制器上成像，并通过数据线传输给显示及处理单元；

步骤S10，预估待测的纳米颗粒的种类及粒径的分布范围；

步骤S11，将标准纳米颗粒分散在一第一基板上，制作标准纳米颗粒的样本；

步骤S12，采用显微成像法测量所述的标准纳米颗粒的样本，测量得到第一基板上一预定区域的每个标准纳米颗粒的粒径大小，将获得的测量数据作为基准；

步骤S13，将承载有标准纳米颗粒的第一基板放在载物台上，采用单个纳米颗粒粒径的测量系统获取所述预定区域内标准纳米颗粒的散射光斑的暗场显微图像；

步骤S14，处理获取的标准纳米颗粒的散射光斑的暗场显微图像，获得对应于每个标准纳米颗粒的散射光斑强度；

步骤S15，根据获得的每个纳米颗粒的粒径的测量数据与对应的每个标准纳米颗粒的散射光斑强度，建立起标准纳米颗粒的散射光斑强度与标准纳米颗粒粒径之间的对应关系；

步骤S16，将待测纳米颗粒分散在一第二基板上，制作待测纳米颗粒的样本；

步骤S17，将承载有待测纳米颗粒的第二基板放在载物台上，采用单个纳米颗粒粒径的测量系统对承载有待测纳米颗粒的第二基板进行观测，获取待测纳米颗粒的散射光斑的暗场显微图像；以及

步骤S18，根据获取的待测纳米颗粒的散射光斑的暗场显微图像，获得对应于每个待测纳米颗粒的散射光斑强度，并根据建立起的纳米颗粒的标准散射光斑强度与标准纳米颗粒粒径之间的对应关系，得到暗场显微图像中待测纳米颗粒的粒径。

与现有技术相比较，本发明提供的单个纳米颗粒粒径的测量方法，利用暗场散射强度法，结合显微成像法能对单个纳米颗粒测量以及光散射法可实现快速测量的优点，基于金属纳米颗粒的散射特性，利用标准纳米颗粒的样品的测量数据，建立起纳米颗粒的散射光斑强度与纳米颗粒粒径之间的关系。通过测量单个颗粒在暗场显微条件下的散射光斑强度，即可快速估计出其粒径大小，具有测量快速、测量成本低廉、操作容易等显著优点。

附图说明

图1为本发明第一实施例提供的单个纳米颗粒粒径的测量系统的结构示意图。

图2标准纳米颗粒的样本原子力显微镜测量形貌图像。

图3对应于图2所示区域的标准纳米颗粒的样本的暗场显微图像。

图4为纳米颗粒暗场散射光斑的二值化图。

图5为经Hough变换圆检测方法得到的颗粒散射光斑位置的检测结果。

图6为纳米颗粒的散射光斑强度与纳米颗粒粒径之间的关系。

图7为待测纳米颗粒的散射光斑的暗场显微图像。

图8为待测纳米颗粒粒径的分布直方图及局部放大图。

图9为本发明第二实施例提供的单个纳米颗粒粒径的测量系统的结构示意图。