[发明专利]改性共轭二烯系聚合物、其制造方法、改性共轭二烯系聚合物组合物及轮胎

权利要求书

1.一种改性共轭二烯系聚合物，其在共轭二烯系聚合物的末端部上具有被1个以上的烷氧基取代的甲硅烷基和1个以上的氮原子，

所述改性共轭二烯系聚合物是通过使共轭二烯系聚合物的聚合活性末端与具有被2个以上的烷氧基取代的甲硅烷基和1个以上的氮原子的化合物发生反应而得到的，

所述共轭二烯系聚合物是通过使用多官能阴离子聚合引发剂，使共轭二烯化合物聚合或者使共轭二烯化合物与芳香族乙烯基化合物共聚而得到的，

所述多官能阴离子聚合引发剂是在聚乙烯基芳香族化合物与有机锂化合物的摩尔比、即聚乙烯基芳香族化合物/有机锂化合物为0.05～1.0的范围的条件下制备的。

2.如权利要求1所述的改性共轭二烯系聚合物，其中，该改性共轭二烯系聚合物的改性率为78质量％以上，所述改性率是根据使用了氧化硅颗粒填充柱的凝胶渗透色谱法测定的柱上的吸附量求出的。

3.如权利要求1或2所述的改性共轭二烯系聚合物，其中，所述聚乙烯基芳香族化合物与锂的摩尔比为0.1～0.45的范围。

4.如权利要求1～3中任一项所述的改性共轭二烯系聚合物，其中，所述具有被2个以上的烷氧基取代的甲硅烷基和1个以上的氮原子的化合物以下式(1)或下式(2)表示，

式(1)中，R¹、R²各自独立地是碳原子数为1～20的烷基或芳基，R³是碳原子数为1～20的亚烷基，R⁴、R⁵是相同或不同的碳原子数为1～6的烃基，R⁴、R⁵与相邻的2个N一起形成5元环以上的环结构，R⁶是碳原子数为1～20的烃基、被不带有活性氢的杂原子取代的碳原子数为1～20的烃基、或者三有机基取代甲硅烷基，m为2或3的整数，

式(2)中，R¹～R⁶、m的定义与上述式(1)的定义相同，R⁷是碳原子数为1～20的烃基、被不带有活性氢的杂原子取代或无取代的碳原子数为1～20的烃基、或者三有机基取代甲硅烷基。

5.一种改性共轭二烯系聚合物，

在使用了聚苯乙烯系凝胶填充柱的凝胶渗透色谱法测定中，该改性共轭二烯系聚合物最低分子量侧的峰面积为色谱图总面积的20～50％，

该改性共轭二烯系聚合物的改性率为78质量％以上，所述改性率是根据使用了氧化硅颗粒填充柱的凝胶渗透色谱法测定的柱上的吸附量求出的。

6.一种改性共轭二烯系聚合物的制造方法，其包括如下工序：

使聚乙烯基芳香族化合物与有机锂化合物反应，制备聚乙烯基芳香族化合物/有机锂化合物的摩尔比为0.05～1.0的范围的多官能阴离子聚合引发剂的工序；

使用上述多官能阴离子聚合引发剂，使共轭二烯化合物聚合或者使共轭二烯化合物与芳香族乙烯基化合物共聚，得到共轭二烯系聚合物的工序；以及

使上述共轭二烯系聚合物的聚合活性末端与具有被2个以上的烷氧基取代的甲硅烷基和1个以上的氮原子的化合物发生反应的工序。

7.如权利要求6所述的改性共轭二烯系聚合物的制造方法，其中，所述聚乙烯基芳香族化合物与有机锂化合物的摩尔比为0.1～0.45的范围。