[发明专利]一种配向膜印刷补正方法及系统在审

专利信息
申请号: 201510488901.4 申请日: 2015-08-11
公开(公告)号: CN105068323A 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 卢道松 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 印刷 补正 方法 系统
【说明书】:

【技术领域】

发明涉及显示技术领域,特别涉及一种配向膜印刷补正方法及系统。

【背景技术】

配向膜印刷技术是将PI液预吐到网纹辊轮(AniloxRoller)上,再转印到版酮上的APR版(一种以紫外线固化聚氨酯类树脂为原料的凸板)上,在版酮移动时,将APR版上图形与基板上面板(Panel)图形贴合,使PI液均匀涂布到阵列基板或彩膜基板表面上,形成均匀平整的膜面。

然而随着产品需求,面板(Panel)边框越来越小,为保证贴合后产品品质,要求配向膜印刷精度越来越高。现有技术难点在于版酮移动转印时,APR版被拉伸变形,且沿着印刷方向,APR版拉伸变形量不同,导致印刷后涂布位置与基板上Panel位置偏移,印刷精度差,不能满足产品需求。

因版拉伸变化,导致印刷到基板上的PI膜出现有效显示区域(ActiveArea)未涂布而漏光,或者超过计划印刷区域,导致与框胶重叠(SealOverlap)比例过多或者印刷位置不可控制导致粘着不佳的问题。

故,有必要提出一种新的技术方案,以解决上述技术问题。

【发明内容】

本发明的目的在于提供一种配向膜印刷补正方法及系统,旨在解决现有技术中存在的因版拉伸变化,导致印刷到基板上的PI膜出现有效显示区域(ActiveArea)未涂布而漏光,或者超过计划印刷区域,导致与框胶重叠(SealOverlap)比例过多或者印刷位置不可控制导致粘着不佳的问题。

为解决上述问题,本发明的技术方案如下:

一种配向膜印刷补正系统,所述配向膜印刷补正系统包括:

CCD图像控制器,用于量测基板上PI涂布的实际位置,并将所述实际位置与预设位置进行对比计算,得到偏差值;

PLC可编程逻辑控制器,用于根据所述CCD图像控制器发送的所述偏差值计算出偏差的补正值;

运动控制器,用于接收所述PLC可编程逻辑控制器发送的所述补正值,根据所述补正值控制所述直流电动机和所述直线运动装置;

所述直流电动机,用于根据所述补正值调整版酮的旋转速度;

所述直线运动装置,用于根据所述补正值调整版酮的直线速度。

优选的,在所述的配向膜印刷补正系统中,

所述PLC可编程逻辑控制器,用于接收手动输入的补正值。

优选的,在所述的配向膜印刷补正系统中,所述预设位置为在基板及APR版上设置的版补正标识。

优选的,在所述的配向膜印刷补正系统中,所述版补正标识中心对齐基板的图案的起始位置及末端位置。

优选的,在所述的配向膜印刷补正系统中,所述版补正标识设置于所述基板两侧。

一种配向膜印刷补正方法,所述配向膜印刷补正方法包括:

量测基板上PI涂布的实际位置,并将所述实际位置与预设位置进行对比计算,得到偏差值;

根据所述偏差值计算出偏差的补正值;

根据所述补正值控制直流电动机和直线运动装置的运作速度。

优选的,在所述的配向膜印刷补正方法中,所述根据所述补正值控制直流电动机和直线运动装置的运作速度的步骤,具体包括:

所述直流电动机根据所述补正值调整版酮的旋转速度;

所述直线运动装置根据所述补正值调整版酮的直线速度。

优选的,在所述的配向膜印刷补正方法中,所述补正值为通过手动输入。

优选的,在所述的配向膜印刷补正方法中,所述预设位置为在基板及APR版上设置的版补正标识。

优选的,在所述的配向膜印刷补正方法中,所述版补正标识中心对齐基板的图案的起始位置及末端位置。

相对现有技术,通过CCD图像控制器量测基板上PI涂布的实际位置,并将实际位置与预设位置做对比计算,将计算结果反馈给PLC(ProgrammableLogicController,可编程逻辑控制器),通过PLC实时控制D.DMotor(直流电动机)旋转速度与Linear(直线运动装置)直线速度,从而调整机台印刷位置,达到调整机台印刷精度的目的。本发明实施例使配向膜在在印刷到基板上时,精度得到良好控制,整个动作由机台自动完成,印刷范围趋小化,印刷稳定性提升。

为让本发明的上述内容能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合所附图式,作详细说明如下。

【附图说明】

图1为本发明实施例提供的配向膜印刷补正系统的结构示意图。

图2为本发明实施例提供的补正标识的分布示意图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510488901.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top