[发明专利]等离子体刻蚀设备有效
| 申请号： | 201510445160.1 | 申请日： | 2015-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN105118767B | 公开（公告）日： | 2017-04-12 |
| 发明（设计）人： | 郑锦华;王俊杰;廖晓燕;吴双;魏新煦 | 申请（专利权）人： | 郑州大学 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 郑州德勤知识产权代理有限公司41128 | 代理人： | 黄军委 |
| 地址： | 450001 河南*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体 刻蚀 设备 | ||
1.一种等离子体刻蚀设备，包括有设置有气体原料进气口的等离子体发生室、与所述等离子体发生室连通的抽真空装置、设置在所述等离子体发生室内部的阳极结构和与所述阳极结构间隔设置的阴极结构，所述阳极结构和所述阴极结构分别设置所述等离子体发生室内部相对设置的两端，所述阳极结构与所述等离子体发生室电连接，所述阴极结构与所述等离子体发生室电绝缘，其特征在于：所述阴极结构包括阴极板、用于罩所述阴极板的阳极罩筒和绝缘板，所述阳极罩筒的一端用于设置玻璃工件，使所述玻璃工件与所述阳极罩筒和所述绝缘板配合形成电气绝缘腔，以使所述阴极板与所述阳极罩筒电绝缘。
2.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述阴极板上连接有阴极导入线，所述阴极导入线通过绝缘套与所述等离子体电离室电绝缘。
3.根据权利要求1或2所述的等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述阴极结构设置于所述等离子体发生室的底端，所述绝缘板位于所述等离子体发生室内部底端，所述阴极板位于所述绝缘板的上方，所述阳极罩筒用于罩所述阴极板和所述绝缘板。
4.根据权利要求3所述的等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述抽真空装置使得所述等离子体发生室中的真空度不低于5×10-3Pa。
5.根据权利要求3所述的等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述阴极板与所述阳极罩筒的内侧壁的间隙为1～2mm。
6.根据权利要求1或2所述的等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述阳极结构包括与所述等离子体反应室电连接的阳极板和调节所述阳极板与所述阳极罩筒之间间距的距离调节器。
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