[发明专利]一种高抗氧化性铜带有效

专利信息
申请号: 201510344355.7 申请日: 2015-06-19
公开(公告)号: CN105322041A 公开(公告)日: 2016-02-10
发明(设计)人: 袁华斌;肖新民;李鹏;丁培兴;王金波 申请(专利权)人: 常州天合光伏焊带材料有限公司;常州天合光能有限公司
主分类号: H01L31/05 分类号: H01L31/05
代理公司: 浙江永鼎律师事务所 33233 代理人: 郭小丽
地址: 213031 江苏省常州市新北*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 氧化 性铜带
【说明书】:

技术领域

发明涉及用于生产光伏焊带的铜带,尤其涉及一种高抗氧化性铜带,属于太阳能组件生产技术领域。

背景技术

焊带是光伏组件焊接工艺中的重要原材料,焊带质量的好坏将直接影响到光伏组件电流的收集效率,对光伏组件的功率影响很大。因此对焊带的原材料要求就很高,尤其是铜带,铜带直接影响生产焊带的表观与各种力学性能,是决定焊带质量的关键因素。

生产焊带工艺中使用的铜带材质一般都是高纯度(>99.90%)的紫铜,由于铜带在生产、运输、存放过程中暴露在空气中,受外界环境等因素影响较大,易被氧化,而氧化物与锡并不能良好的结合在一起,导致在焊带生产过程中,容易造成焊带表面缺陷,影响焊带表面的质量。可见,光伏产业中使用的铜带质量亟需改进。

利用气相沉积技术在纯铜基材表面镀膜发展迅速,它不仅可以用来制备各种具备特殊力学性能(如超硬、高耐蚀、耐热和抗氧化性能等)的薄膜涂层,而且还可以用来制备各种功能薄膜材料和装饰薄膜涂层等。因此,利用薄膜涂层的上述优点,在铜基表面形成一层保护膜,防止氧化,减少焊带的不良率成为光伏组件用铜带改良的重要研究课题。

发明内容

本发明针对现有技术中铜带易被氧化、影响焊带表面质量的技术问题,提供一种高抗氧化性铜带,提高铜带的抗氧化性,降低生产焊带产品的表面缺陷,尤其是针孔不良。

为此,本发明采用如下技术方案:

一种高抗氧化性铜带,包括呈扁平带状的铜基,其特征在于:利用表面溅射沉积方法在铜基的至少一个表面形成一层纳米保护层。

进一步地,所述纳米保护层的材料为MoSi2、Ni-Si3N4、Al2O3、Ni-P、Ti/DLC中的一种,或者为,两种或两种以上混合物。

进一步地,所述纳米保护层厚度为350纳米到450纳米。

进一步地,前所述的铜基的横截面呈矩形,或两侧短边呈弧形。

进一步地,所述铜基厚度为0.18~0.25mm。

本发明与现有技术相比具有如下有益效果:

本发明通过在铜基的至少一个表面镀上一层纳米保护层,利用纳米保护层的稳定性、抗氧化性能,有效地延长铜带表面被氧化的时间,有效降低了利用本发明生产的光伏焊带产品的表面缺陷,尤其是针孔不良;同时,本发明提供的铜带可焊性好、抗拉强度高,延伸率和电阻率均能充分满足工程应用需要。因此,本发明结构简单,效果好,适合于工业推广使用,具有广泛的利用价值。

附图说明

图1、图2是本发明的结构示意图;图中,1为铜基,2为纳米保护层。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好的理解本发明方案,下面结合具体实施例对本发明的技术方案进行清楚、完整的描述,本发明中与现有技术相同的部分将参考现有技术。

如图1-2所示,本发明的高抗氧化性的铜带,包括呈扁平带状的铜基1,铜基1具有上表面和下表面,利用表面溅射沉积方法将MoSi2附着到铜基的上、下表面,从而在铜基1的两个表面各形成一层纳米保护层2。

当然,在其他实施例中个,纳米保护层2的材料也可以选用Ni-Si3N4、Al2O3、Ni-P、Ti/DLC中的任意一种;或者,选用MoSi2、Ni-Si3N4、Al2O3、Ni-P、Ti/DLC两种或两种以上混合物。

纳米保护层2的厚度为350纳米到450纳米;铜基1的横截面呈矩形,或两侧短边呈弧形;所述扁平状的铜带的厚度为0.18~0.25mm。

铜基1采用含铜量在99.90%以上厚度为14毫米到150毫米的的紫铜,采用多次连续的压延和退火工艺处理,得到的铜基1厚度为180微米到200微米。

本发明的高抗氧化性的铜带,和现有的铜带相比,相同贮存条件下,铜带的贮存时间从原来的6天增加到了现在的20天,大大增加了铜带的仓库贮存时间,能够充分满足工程应用的需要。现有的普通铜带虽然在加工退火工艺时加入的有机型抗氧剂,但是,维持抗氧化能力的时间不长,而本发明添加的抗氧化剂是无机物,抗氧化性能持续时间长。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州天合光伏焊带材料有限公司;常州天合光能有限公司,未经常州天合光伏焊带材料有限公司;常州天合光能有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510344355.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top