[发明专利]研磨装置有效
| 申请号： | 201510242162.0 | 申请日： | 2015-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN105081961B | 公开（公告）日： | 2018-12-14 |
| 发明（设计）人： | 锅谷治 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | B24B37/30 | 分类号： | B24B37/30;B24B37/32;B24B37/10 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 梅高强;刘煜 |
| 地址： | 日本国东京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 装置 | ||
1.一种研磨装置，其特征在于，具有：
头主体，该头主体使基板旋转并将该基板按压到研磨面；
保持环，该保持环围住所述基板地配置，与所述头主体一起旋转并按压所述研磨面；
旋转环，该旋转环固定于所述保持环，与所述保持环一起旋转；
静止环，该静止环配置在所述旋转环上；以及
局部荷载赋予装置，该局部荷载赋予装置通过所述旋转环及所述静止环而将局部荷载施加于所述保持环的一部分，
所述旋转环具有与所述静止环接触的多个辊，
所述多个辊分别具有：轴承；以及安装于所述轴承的外圈的轮，所述轮由树脂或橡胶构成。
2.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，还具有配置在所述旋转环与所述静止环之间的密封件。
3.如权利要求2所述的研磨装置，其特征在于，所述密封件是迷宫式密封件。
4.如权利要求2所述的研磨装置，其特征在于，所述密封件是将所述旋转环与所述静止环之间的间隙封住的接触式密封件。
5.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述静止环具有与所述多个辊接触的圆环轨道。
6.一种研磨装置，其特征在于，具有：
头主体，该头主体使基板旋转并将该基板按压到研磨面；
保持环，该保持环围住所述基板地配置，与所述头主体一起旋转并按压所述研磨面；
旋转环，该旋转环固定于所述保持环，与所述保持环一起旋转；
静止环，该静止环配置在所述旋转环上；以及
局部荷载赋予装置，该局部荷载赋予装置通过所述旋转环及所述静止环而将局部荷载施加于所述保持环的一部分，
所述旋转环具有与所述静止环接触的多个辊，
所述旋转环具有辊壳体，该辊壳体形成有收容所述多个辊的环状凹部。
7.如权利要求6所述的研磨装置，其特征在于，还具有与所述静止环连接的吸引管线，
所述吸引管线与由所述环状凹部形成的空间连通。
8.如权利要求6所述的研磨装置，其特征在于，还具有配置在所述旋转环与所述静止环之间的密封件。
9.如权利要求8所述的研磨装置，其特征在于，所述密封件是迷宫式密封件。
10.如权利要求8所述的研磨装置，其特征在于，所述密封件是将所述旋转环与所述静止环之间的间隙封住的接触式密封件。
11.如权利要求6所述的研磨装置，其特征在于，所述静止环具有与所述多个辊接触的圆环轨道。
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