[发明专利]激光处理设备和方法

权利要求书

1.一种用于处理基板的激光处理设备，所述激光处理设备包括：

激光单元，其经配置以产生激光束并且分离所述激光束；

扫描器单元，其配备有调整所述激光束的传播方向的多个扫描器，并且经配置以提供所述激光束的传播路径；

引导单元，其安置于所述激光单元与所述扫描器单元之间，并且经配置以选择性地将所述经分离激光束引导至所述扫描器；

照射单元，其经配置以将穿过所述扫描器单元的所述激光束照射在所述基板上；

照相单元，其经配置以为所述基板照相，且根据所述基板上的至少一个图案的精细度以及相对于所述基板的工作的类型自动地调整相对于所述基板的所述照相放大率；以及

控制器，其经配置以控制所述激光单元及所述引导单元的操作，以当所述基板上的所述图案的材料是金属薄膜时选择第一波长激光束，并且当所述基板上的所述图案的所述材料是有机薄膜或氧化铟锡薄膜时选择第二波长激光束，其中所述第二波长激光束的波长比所述第一波长激光束的波长短，

其中所述激光单元包括产生所述激光束的激光产生器以及将所述激光束分离以振荡具有至少三种不同波长的激光束的激光振荡器，

其中所述多个扫描器包括第一扫描器以及第二扫描器，所述第一扫描器经配置以调整具有至少三种不同波长的所述激光束中的至少一个激光束的传播方向，且所述第二扫描器经配置以调整具有与通过所述第一扫描器以调整所述传播方向的所述至少一个激光束的波长不同的波长的激光束。

2. 根据权利要求1所述的用于处理基板的激光处理设备，其中所述引导单元包括：

阻挡部分，所述阻挡部分配备有相同于所述经分离激光束的数目，并且经配置以打开和关闭所述激光束的传播路径；以及

激光镜，所述激光镜提供于所述阻挡部分与所述第一扫描器之间以及所述阻挡部分与所述第二扫描器之间，并且经配置以将穿过所述阻挡部分的激光束引导至所述扫描器。

3.根据权利要求1所述的用于处理基板的激光处理设备，其中所述照射单元包括物镜，所述物镜经配置以将所述激光束聚焦在所述基板上。

4.根据权利要求1所述的用于处理基板的激光处理设备，其中所述照相单元包括相机，其经配置以为所述基板照相；照明器，其经配置以照明所述基板；以及自动聚焦器，其经配置以校正所述相机的焦点。

5.根据权利要求4所述的用于处理基板的激光处理设备，其中所述控制器根据穿过所述引导单元的激光束的波长选择将由所述扫描器单元使用的扫描器。

6.根据权利要求5所述的用于处理基板的激光处理设备，其中在检查所述基板时，所述相机的所述照相放大率增加5至20倍，并且在通过所述控制器处理所述基板时，所述相机的所述照相放大率增加20至50倍。

7.一种通过使用激光处理基板的激光处理方法，所述激光处理方法包括：

产生激光束；

选择所述激光束的波长且分离所述激光束以振荡具有至少三种不同波长的激光束；

调整具有至少三种不同波长的所述激光束的传播方向，其中具有至少三种不同波长的所述激光束中的至少一个激光束的传播方向与具有至少三种不同波长的所述激光束中的除所述至少一个激光束以外的激光束的传播方向不同；

为所述基板照相、将所述激光束照射在所述基板上以处理所述基板、以及监视所述基板；以及

当在所述基板的所述处理期间产生故障时，停止所述激光处理，

其中所述基板的所述照相包括根据所述基板上的至少一个图案的精细度以及相对于所述基板的工作的类型自动地调整相对于所述基板的所述照相放大率，

其中选择所述激光束的所述波长包括当所述基板上的所述图案的材料是金属薄膜时选择第一波长激光束，并且当所述基板上的所述图案的所述材料是有机薄膜或氧化铟锡薄膜时选择第二波长激光束，其中所述第二波长激光束的波长比所述第一波长激光束的波长短。

8.根据权利要求7所述的通过使用激光处理基板的激光处理方法，其中所述激光束的所述波长的所述选择包括根据所述基板或所述基板上的图案的材料选择所述激光束的所述波长。

9.根据权利要求7所述的通过使用激光处理基板的激光处理方法，其中当在所述基板的所述处理期间产生故障时，所述激光处理的所述停止包括调整所述基板的位置并且重处理所述基板。

10.根据权利要求7所述的通过使用激光处理基板的激光处理方法，其中所述基板的所述处理包括修复在所述基板上形成的所述图案的缺陷。