[发明专利]一种含膦离子化聚合物、制备方法及阴离子交换膜

权利要求书

1.一种含膦离子化聚合物，其特征在于：该聚合物的结构式如式I所示：

其中，Ar为主链两端含有芳环的基团；R₁、R₂各自独立的为碳原子数为1～6的烷基，或者R₁、R₂直接相连并与其所连接的氮原子共同形成六元环；T^-为-1价的阴离子；n为10～150的整数。

2.根据权利要求1所述的含膦离子化聚合物，其特征在于：Ar为式1～式6所示的基团中的任意一种或多种：

其中，W为-CO-或-SO₂-。

3.根据权利要求1所述的含膦离子化聚合物，其特征在于：R₁、R₂各自独立的为甲基、乙基、叔丁基或环己基，或者R₁、R₂直接相连并与其所连接的氮原子共同形成六元环。

4.根据权利要求1所述的膦离子化聚合物，其特征在于：T^-为Cl^-、Br^-、CF₃SO₃^-、BF₄^-、PF₆^-或OH^-。

5.一种如权利要求1所述的含膦离子化聚合物的制备方法，其特征在于：包括将前驱体聚合物、溶剂、含膦试剂与缚酸剂混合进行反应，即得所述的含膦离子化聚合物；

其中，所述前驱 体聚合物的结构式如式II所示：

n为10～150的整数；Ar与式I中所述相同；

所述含膦试剂的结构式如式III所示：

其中，R₁、R₂与式I中所述相同。

6.根据权利要求5所述的含膦离子化聚合物的制备方法，其特征在于：所述缚酸剂为碳酸钾、氢氧化钾、叔丁醇钠、三亚乙基二胺或1,8-二氮杂二环十一碳-7-烯。

7.根据权利要求5所述的含膦离子化聚合物的制备方法，其特征在于：所述含膦试剂为式III-1～式III-4中的任意一种或多种：

8.根据权利要求5、6或7所述的含膦离子化聚合物的制备方法，其特征在于：所述含膦试剂中所含膦与前驱体聚合物中所含仲胺基的摩尔比为1.0～1.5:1.0；所述缚酸剂与含膦试剂的摩尔比为1.0～1.6:1.0。

9.根据权利要求5、6或7所述的含膦离子化聚合物的制备方法，其特征在于：所述反应的温度为20～80℃，反应时间为1～24h。

10.一种阴离子交换膜，其特征在于：主要由权利要求1所述的含膦离子化聚合物制备而成。