[发明专利]一种用于阴离子染料脱盐的陶瓷复合膜的制备方法

权利要求书

1.一种用于阴离子染料脱盐的陶瓷复合膜的制备方法，其具体步骤为：先将预处理后的管式陶瓷超滤膜浸泡于硅烷偶联剂醇溶液中，通过硅烷化反应以共价键使膜表面带上巯基，再通过双氧水将巯基氧化，从而获得膜面带有磺酸基的改性陶瓷超滤膜，其具体步骤如下：

A：膜管预处理：将管式陶瓷超滤膜洗净，去除膜表面及孔内杂质后烘干；其中所述的管式陶瓷超滤膜为至少含Ti、Zr、Si或Al元素中一种氧化物所制得的多孔陶瓷膜，其孔径范围在2～4nm；

B：硅烷偶联剂溶液配制：将巯基硅烷偶联剂溶于乙醇，并加入酸作为水解催化剂，调节pH值为3.5～5.5，混合搅拌得反应液；

C：硅烷化反应：将预处理好的管式陶瓷超滤膜浸泡于步骤B搅拌好的反应液，在恒温震荡器中反应后取出，清洗后放入烘箱中干燥；

D：巯基氧化反应：将步骤C得到的管式陶瓷超滤膜浸泡于双氧水中，氧化后取出，清洗烘干。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤B中所述的巯基硅烷偶联剂为(3-巯基丙基)三甲氧基硅烷或2-巯基乙基三乙氧基硅烷中任意一种。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤B中所配制的反应液中巯基硅烷偶联剂的浓度为0.04～0.1mol/L。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤C中恒温震荡器的温度为30～60℃，反应8～15小时；烘箱的干燥温度为100～130℃，干燥时间为1～6小时。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤D中双氧水的体积浓度为1～5％。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤D中氧化时间为5～9小时。