[发明专利]彩膜基板、彩膜基板的制造方法及显示面板

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板面向阵列基板一侧的表面与隔垫物相接触，

所述彩膜基板中至少一层为镂空结构，所述镂空结构用于增加所述彩膜基板与所述隔垫物之间的摩擦力。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，

所述隔垫物具有凹凸结构，所述凹凸结构根据所述镂空结构确定，所述凹凸结构的凸起部分与所述镂空结构的镂空部分对应，所述凹凸结构的凹进部分与所述镂空结构的非镂空部分对应。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，

所述彩膜基板包括透明基板，所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成有彩膜层；

所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素，所述第二彩色像素对应隔垫物位置处具有镂空结构。

4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，

所述彩膜基板包括透明基板，所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成有彩膜层；

所述彩膜层面向所述阵列基板一侧的表面形成有上层覆盖层；

所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素，所述上层覆盖层对应隔垫物位置处具有镂空结构，且所述镂空结构与所述第二彩色像素对应。

5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，

所述彩膜基板包括透明基板，所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成有彩膜层；

所述彩膜层面向所述阵列基板一侧的表面形成有上层覆盖层；

所述上层覆盖层面向所述阵列基板一侧的表面形成有透明电极层；

所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素，所述透明电极层对应隔垫物位置处具有镂空结构，且所述镂空结构与所述第二彩色像素对应。

6.根据权利要求1至5任一权利要求所述的彩膜基板，其特征在于，

所述镂空结构包括封闭的环形镂空结构。

7.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，

所述封闭的环形镂空结构包括：圆形镂空结构和矩形镂空结构中的至少一种。

8.一种彩膜基板制造方法，用于制造权利要求1至7任一所述的彩膜基板，所述彩膜基板制造方法包括：

在所述彩膜基板中至少一层形成镂空结构，所述镂空结构能够增加隔垫物与所述彩膜基板之间的摩擦力。

9.根据权利要求8所述的彩膜基板制造方法，其特征在于，所述彩膜基板包括透明基板，所述在所述彩膜基板中至少一层形成镂空结构包括：

在所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成彩膜层，所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素；

在所述第二彩色像素对应隔垫物位置处形成镂空结构。

10.根据权利要求8所述的彩膜基板制造方法，其特征在于，所述彩膜基板包括透明基板，所述在所述彩膜基板中至少一层形成镂空结构包括：

在所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成彩膜层，所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素；

在所述彩膜层面向所述阵列基板一侧的表面形成上层覆盖层；

在所述上层覆盖层对应隔垫物位置处形成镂空结构，且所述镂空结构与所述第二彩色像素对应。

11.根据权利要求8所述的彩膜基板制造方法，其特征在于，所述彩膜基板包括透明基板，所述在所述彩膜基板中至少一层形成镂空结构包括：

在所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成彩膜层，所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素；

在所述彩膜层面向所述阵列基板一侧的表面形成上层覆盖层；

在所述上层覆盖层面向所述阵列基板一侧的表面形成透明电极层；

在所述透明电极层对应隔垫物位置处形成镂空结构，且所述镂空结构与所述第二彩色像素对应。

12.根据权利要求8至11任一权利要求所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，

所述镂空结构包括封闭的环形镂空结构。