[发明专利]显示基板的制造方法及显示面板、取向膜制造设备

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种显示基板的制造方法及显示面板、取向膜制造设备。

背景技术

目前，液晶显示领域中6代线以下的基板多采用凸版(APR版)转印技术涂覆制备取向膜。如图1所示，聚酰亚胺(PI)液滴经由PI喷嘴a喷出并在刮刀b的作用下流至刮刀b与网络棍c的夹缝里，网络棍c在外界作用力的作用下通过旋转把PI液滴带至与网络棍c通过捏合力作用的版酮d上的APR版e，随后APR版e在捏合力的作用下将网络棍c上的PI液挤出，并在版酮d的移动中将PI液转印在基板f上。

然而，在生产实践中，本申请发明人发现，这种涂覆方式使得APR版在转印过程中，在版酮与APR版的夹缝中很容易夹杂PI颗粒致使APR版上的固体异物很难被清除，从而在转印过程中易产生大量异物，这不仅影响着所形成的取向膜厚度及均匀度，还严重影响着光取向时的取向效果。

发明内容

本发明提供了一种显示基板的制造方法及显示面板、取向膜制造设备，能够避免取向膜在成膜过程中的异物高发问题，从而提高取向膜的光取向效果。

为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种显示基板的制造方法，包括：

提供一基板；

向所述基板表面蒸镀二酐与溶剂的混合液，形成第一纳米薄膜；

在加热条件下，向所述第一纳米薄膜上蒸镀二胺、催化剂以及溶剂的混合液，形成第二纳米薄膜；将所述第一纳米薄膜和所述第二纳米薄膜中的溶剂蒸发，使二酐与二胺在所述催化剂的作用下发生聚合反应，在所述基板上形成取向膜层。

可选的，在所述基板上形成至少一所述第一纳米薄膜和至少一所述第二纳米薄膜，以形成至少一层所述取向膜层。

可选的，所述加热条件下的加热温度为50-110℃。

进一步的，所述二胺与所述二酐的摩尔质量比为0.9：1～1.1：1，所述二酐与溶剂的混合液中溶剂与二酐的摩尔质量比为3：1～4：1。

可选的，所述二酐包括环丁烷四甲酸二酐、1,2,4,5-均苯四甲酸二酐、2,3,5-三羧基环戊基乙酸二酐和3,4-二羧基-1,2,3,4-四氢-1-萘酸二酐中的至少一种；和/或

所述二胺包括对苯二胺、4,4’-二苯胺、4,4’-二氨基二苯胺、4,4’-二氨基二苯醚、2,2’-双(三氟甲基)-4,4’-二氨基联苯、1,5-双(4-氨基苯氧基)戊烷和2,2’-二甲基-4,4’-二氨基联苯中的至少一种；和/或

所述溶剂包括甲基吡咯烷酮、丁内酯和丁氧乙醇中的至少一种。

优选的，所述在所述基板上形成取向膜层之后，还包括：

将所述取向膜层在210℃-250℃的温度下固化10-40分钟。

可选的，所述取向膜层为两层时，第一层取向膜层的厚度为800埃-1200埃，第二层取向膜层的厚度为200埃-400埃，所述第二层取向膜层位于所述第一层取向膜层与所述基板之间。

优选的，所述第一层取向膜层为聚酰胺酸型，所述第二层取向膜层为聚酰亚胺型。

一种显示面板，包含由上述任一项技术方案所述的制造方法制得的显示基板。

一种取向膜制造设备，包括第一蒸镀腔室和与所述第一蒸镀腔室相连的第二蒸镀腔室；其中，

所述第一蒸镀腔室包括第一物料区和设在所述第一物料区下方的用于加热所述第一物料区的第一物料旋转台，所述第一物料区的上方相对设有待蒸镀基板以及用于升降所述待蒸镀基板的第一旋转机台；

所述第二蒸镀腔室包括第二物料区和设在所述第二物料区下方的用于加热所述第二物料的第二物料旋转台，所述第二物料区的上方相对设有所述待蒸镀基板以及用于升降所述待蒸镀基板的第二旋转机台，并且在所述待蒸镀基板与所述第二旋转机台之间还设有加热板。

本发明提供了一种显示基板的制造方法及显示面板、取向膜制造设备，在该制造方法中，通过将二胺和二酐分层蒸镀在基板上并在催化剂的作用下发生聚合制备得到取向膜。采用蒸镀方式制备取向膜不但解决了现有技术中取向膜在成膜过程中的异物高发问题，此外还可使各纳米薄膜在蒸镀过程中的厚度得到精确控制，且通过合理调节各组分之间的配比，还能够使各组分在聚合时反应更加充分，制备得到更均匀的取向膜层，从而可有效提高取向膜层的光取向效果。该方法操作简单，在实际生产中具有一定的生产性。

附图说明

图1为现有技术中的APR版转印装置示意图；

图2为本发明实施例提供的显示基板的制造方法的示意图；