[发明专利]一种民建地下室与地铁连接通道的施工方法有效

专利信息
申请号: 201510019648.8 申请日: 2015-01-14
公开(公告)号: CN104695479A 公开(公告)日: 2015-06-10
发明(设计)人: 熊竺;余明松;徐永浩 申请(专利权)人: 中铁第四勘察设计院集团有限公司
主分类号: E02D29/045 分类号: E02D29/045
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 张瑾
地址: 430063 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 民建 地下室 地铁 连接 通道 施工 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及地下建筑技术,特别是指提供一种民建地下室与地铁连接通道的施工方法。

背景技术

城市轨道交通的发展带动了地铁沿线的物业开发。越来越多的民建地下室提出与地铁站厅层进行对接连通的要求,从而吸引更多的客流且带来新的商机。民建地下室与地铁的连接通道一般位于辅道范围,该范围存在较多的地下管线,由于明挖需迁改管线,对交通存在一定的影响,协调难度较大。

然而,通常的作法是采用暗挖法。由于管线的存在,不能采用直墙拱结构,而是采用平顶直墙结构。传统的暗挖法,采用钢格栅作为初期支护,钢格栅之间采用双层钢筋网片进行纵向连接,采用C25早强喷射混凝土进行网喷形成支护。钢格栅的加工精度要求较高,如节点的拼装在暗挖掌子面时的操作较困难,拼接精度要求也较高,加之,如果喷射混凝土不均匀,容易出现反弹,且喷射混凝土导致暗挖环境恶劣。初期支护贯通后,敷设防水层时,需要进行换撑处理,过程复杂,且反复熔断与焊接会导致防水板灼烧破坏。

发明内容

为解决上述技术问题,本发明的主要目的在于提供一种民建地下室与地铁连接通道的施工方法。

为达成上述目的,本发明应用的技术方案是:本发明提供一种民建地下室与地铁连接通道的施工方法,包括构建降水井,使得暗挖段降水;构建管棚使得暗挖顶部形成加固体;其中,该方法包括的步骤是:(一)在相对于暗挖顶部的底部开挖一个步距并在步距中架设底部托起构件,对应底部托起构件在顶部局部开挖并在局部开挖处架设顶部托起构件,开挖拉槽并在拉槽中架设竖钢,竖钢支撑在底部托起构件与顶部托起构件之间;(二)在顶部托起构件两侧开挖局部边跨并在局部边跨中架设托架构件,托架构件与顶部托起构件处于水平平面;(三)自上而下对称进行侧壁土体开挖并设木模板,向下开挖到中部时预留核心土并施做左、右边跨托起构件,再架设左、右侧竖钢并使之支撑于托架构件与边跨托起构件之间;(四)挖除预留核心土,架设水平支撑工钢,完成一榀开挖及支撑架设,进入下一榀的开挖循环,藉此形成通道结构;(五)凿除通道结构中辅助施工的围护结构并依顶板、底板及侧墙结构绑扎钢筋,再经浇筑形成顶板、底板及侧墙墙体;(六)割除通道结构中的钢构件并在内表面喷涂防水涂料,施工缝处设接水盒或止水带,便完成民建地下室与地铁连接通道的施工。

在本实施例中优选,所述的降水井设置深度为底部下方至少1m。

在本实施例中优选,所述的底部托起构件包括底部枋木及其设在底部枋木上的底部支托;所述的顶部托起构件包括顶部支托及其设在顶部支托上的顶部枋木;所述的底部支托及顶部支托均为钢性构件并分别包括横向工钢。

在本实施例中优选,所述的竖钢包括上、下两端,其中上端与顶部支托抵接,下端与底部支托抵接。

在本实施例中优选,所述的托架构件包括托架及边跨枋木,托架为钢性构件并包括水平支托及倾斜支托,边跨枋木设于水平支托上并与顶部枋木处于水平平面。

在本实施例中优选,所述的边跨托起构件包括边跨枋木及其设于边跨枋木上的边跨支托,边跨支托为钢性构件并与底部支托相连且处于相同水平平面。

在本实施例中优选,所述的侧竖钢包括上、下两端,其中上端与水平支托抵接,下端与边跨支托抵接。

在本实施例中优选,所述的施工方法还包括钢花管,所述的木模板预留有孔洞,钢花管打设于孔洞并注水泥水玻璃双液浆。

在本实施例中优选,所述的施工缝包括变形缝,变形缝设在连接地铁通道的连接处。

在本实施例中优选,所述的侧墙分为上下两半,底板与下半部侧墙进行第一浇筑,顶板与上半部侧墙进行第二次浇筑,所述的止水带沿通道结构内皮周圈预埋注浆管,浇筑完毕后进行二衬背后填充注浆。

本发明与现有技术相比,其有益的效果是:一是采用焊接钢构件作支护,不设置外包防水板,也不作防水板搭接而进行的换撑处理,直接在初期支护钢架体系上绑扎钢筋,整个暗挖过程及二衬浇筑过程操作简便;二是采用型钢构件进行焊接拼接,布置灵活,操作简便,支护刚度较大,整体性好,省去了喷射混凝土施工,使得施工环境得到了改善;三是采用平顶直墙结构设计,操作简便,部分钢构件可循环利用,适用于民建地下室与地铁站厅层的连接通道暗挖工程。

附图说明

图1是本发明实施例之暗挖平面结构示意图。

图2是本发明实施例之暗挖纵剖面结构示意图。

图3是本发明实施例之暗挖横剖面结构示意图。

图4是本发明实施例之呈现局部施工立面结构示意图。

图5是本发明实施例之呈现两侧局部施工立面结构示意图。

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