[发明专利]被覆膜及其制造方法

权利要求书

1.一种被覆膜，被覆在基材的表面上，并且所述被覆膜的特征在于，

具有在通过明视场透射式电子显微镜图像对截面进行观察时相对地以黑白显示的硬质碳，

白色的硬质碳在厚度方向上相连成网格状，黑色的硬质碳分散在所述网格的间隙中而形成网格状硬质碳层，其中所述网格状硬质碳层是使用物理气相沉积法而形成，所述白色的硬质碳为低密度的硬质碳，所述黑色的硬质碳为高密度的硬质碳，所述高密度的黑色硬质碳分散于所述低密度的白色的硬质碳的间隙中，

在利用拉曼分光法对所述网格状硬质碳层进行测定时，拉曼分光光谱的D频带与G频带的波峰的面积强度比ID/IG比为1～6，

所述在厚度方向上相连成网格状的白色的硬质碳在电子束衍射中显示出非晶质的散射图案，

在所述网格状硬质碳层的下层进一步具有并非网格状的硬质碳层，

所述下层的硬质碳层，在明视场透射式电子显微镜图像中，显示出较所述在厚度方向上相连成网格状而显示出白色的硬质碳更暗的颜色，

所述网格状硬质碳层是从所述下层的硬质碳以白色的硬质碳作为起点开始成长为扇状。

2.根据权利要求1所述的被覆膜，其特征在于，所述在厚度方向上相连成网格状的白色的硬质碳的宽度为0.5nm～10nm。

3.根据权利要求1或2所述的被覆膜，其特征在于，所述分散在网格的间隙中的黑色的硬质碳的至少一部分在电子束衍射中在晶格间隔0.3nm～0.4nm的位置显示出衍射斑。

4.根据权利要求1或2所述的被覆膜，其特征在于，所述网格状硬质碳层的氢含量为10原子％以下。

5.根据权利要求1或2所述的被覆膜，其特征在于，所述网格状硬质碳层的纳米压痕硬度为10GPa～35GPa。

6.根据权利要求1或2所述的被覆膜，其特征在于，所述在厚度方向上相连成网格状的白色的硬质碳的sp²/sp³比为0.2～0.9。

7.根据权利要求1或2所述的被覆膜，其特征在于，所述分散在网格的间隙中的黑色的硬质碳的sp²/sp³比为0.15～0.7。

8.根据权利要求1或2所述的被覆膜，其特征在于，

所述下层的硬质碳层的sp²/sp³比为0.1～0.3。

9.根据权利要求8所述的被覆膜，其特征在于，所述下层的硬质碳层的纳米压痕硬度为35GPa～80GPa。

10.一种被覆膜的制造方法，其特征在于，使用电弧式物理气相沉积法，

以将所述基材温度维持于超过200℃且为300℃以下的方式，

控制偏向电压、电弧电流、加热器温度和/或炉内压力，并且

一面使所述基材自转和/或公转，一面在所述基材的表面上被覆所述硬质碳膜，

由此制造根据权利要求1至9中任一项所述的被覆膜。