[发明专利]磁盘用基板和磁盘有效
申请号: | 201480069623.2 | 申请日: | 2014-12-26 |
公开(公告)号: | CN105830156B | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
发明(设计)人: | 矢崎生悟;前田高志;舆水修 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G11B5/73 | 分类号: | G11B5/73;G11B5/84 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 李辉,黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁盘 用基板 | ||
技术领域
本发明涉及磁盘用基板和磁盘。
背景技术
当前,在个人电脑或者DVD(Digital Versatile Disc:数码视象光碟)记录装置等中,为了进行数据记录而内置有硬盘装置(HDD:Hard Disk Drive)。在硬盘装置中,使用了在基板上设置有磁性层的磁盘,利用在磁盘的面上略微悬浮的磁头对磁性层进行磁记录信息的记录或读取。
为了在基板上形成磁性层,利用爪状的夹具把持住基板的端面的3~4处部位进行保持,保持该状态将基板输送至成膜室,通过真空蒸镀法、溅镀法、CVD法、IBD法等气相生长法在基板的主表面上形成磁性层或保护层等薄膜。
在进行基板的把持或输送时,端面可能被摩擦而产生微小的缺口,从而产生灰尘或者发生破裂,因此对基板的外周的端部实施倒角。例如,在专利文献1中记载了将基板的主表面与倒角面所成的角度设定为48°以上且80°以下的技术。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平11-265506号公报
发明内容
发明要解决的课题
如果利用夹具保持对外周部实施了倒角的基板的外周端部,并进行用于形成磁盘的磁性膜等的成膜处理,则在基板的与夹具接触的接触部附近的主表面上检测出了异物。
因此,本发明的目的在于提供一种不会在成膜后的主表面上残存异物的磁盘用基板。
用于解决问题的手段
在磁盘用基板中,在针对在与成膜时所使用的爪状的把持夹具(保持夹具)接触的接触部的附近所检测出的异物进行分析后,确认到:异物的成分是在形成磁性层等时的膜组成的成分。由于在异物的一部分中观察到了层叠结构,因此,在对夹具仔细观察后确认到:在与基板抵接的抵接部处,堆积在夹具的表面上的膜组成的成分的一部分发生了剥落。这可以认为是:在基板与夹具接触时,堆积在夹具上的磁性膜等剥落,剥落的磁性膜作为异物附着(转移附着)在基板的主表面附近。下述情况被认为是上述现象的背景:近年,为了改善生产效率,输送速度存在逐渐增加的倾向,为了防止输送时的基板落下,增强利用把持夹具进行把持的力,或者使保持夹具的末端形成为V字型。
另外,还观察到如下这样的缺陷:该缺陷具有以与夹具的接触部为起点在磁盘的主表面上呈放射状飞散这样的痕迹。详细进行分析,发现混合有用于磁盘的磁性膜或中间层等的金属成分。关于其原因,判明了原因在于:由于在通过等离子CVD法或离子束淀积(IBD)法形成类金刚石(DLC)的保护膜时施加于基板的偏压,导致在保持夹具与磁盘的接触点处发生了电弧放电。当前,为了关于保护膜实现薄膜化,上述的成膜方法成为主流,但是,为了获得更致密的膜,发现偏压有增加的倾向。
这样,对于以往的基板,在倒角部处与保持夹具接触时,有时会发生各种故障。
在磁盘的生产中,在1个成膜装置中使用多个保持夹具依次保持送入的多个基板并将它们输送至成膜室进行成膜。此时,存在这样的情况:严格来说,保持夹具的形状并非全都相同,而是存在细微的差异。另外,由于保持夹具被重复使用,因此表面的状态根据距离成膜开始的时间而变化。例如,如果膜组成的成分在夹具的表面上堆积的堆积量随着时间的经过而增加,则在夹具与基板接触时,所堆积的膜组成的成分容易作为异物而剥落。由于这些复杂的原因,每个基板与保持夹具的接触点的位置或者所剥落的异物会产生偏差。本发明者发现:在接触点处于基板的主表面附近的情况下,上述问题变得显著,并且发现:通过对端部的形状进行研究,能够消除接触点的位置的随机摆动,从而缓解上述问题。
为了解决上述课题,本发明的第一形态是磁盘用基板,其特征在于,所述磁盘用基板具备:第1倾斜面,其与基板的主表面的外侧轮廓线相连接;第2倾斜面,其连接所述第1倾斜面和基板的侧壁面;以及棱线,其由所述第1倾斜面和所述第2倾斜面形成,所述棱线设置在比所述主表面靠基板的厚度方向内侧的位置处。
优选的是,在设所述主表面与所述第1倾斜面所成的钝角为θ1时,130°≦θ1≦170°。
优选的是,在设所述第1倾斜面与所述第2倾斜面所成的钝角为θ3时,110°≦θ3≦170°。
优选的是,在设所述第2倾斜面与基板的侧壁面所成的钝角为θ4时,130°≦θ4≦170°。
优选的是,从所述主表面的外侧轮廓线至所述棱线为止的径向距离在10μm以上。
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