[发明专利]接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件

说明书

技术领域

本发明涉及接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件。

背景技术

常被组装至手机、便携信息终端（PDA）等仪器中的触控面板大致分类时，包含液晶面板之类的显示装置和接触式传感器之类的位置输入装置。并且，接触式传感器主要由形成于显示区域的敏感电极和配置在显示区域周边的装饰区域的导电布线构成。作为敏感电极，为了不妨碍显示部的可视性而广泛使用透明度高的氧化铟锡（以下记作“ITO”）。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-924号公报。

发明内容

发明要解决的课题

然而，成为ITO原料的铟是昂贵的稀土金属，其供给不稳定。另外，由于导电性较低，对于用作电子黑板等中组装的大型触控面板的敏感电极而言，还存在导电性过低的问题。出于这样的情况，正在探索ITO的替代物质，例如开发了使用贵金属的材料（专利文献1）等，但将其应用于触控面板时，会产生贵金属特有的光反射、与其相伴而产生敏感电极的透视，显示部的可视性降低。

另外，形成于接触式传感器的显示区域的ITO与配置于其周边的装饰区域的导电布线还存在如下问题：ITO与导电布线所使用的材料之间的密合不良；由于在ITO的图案形成工序与配置于装饰区域的导电布线的形成工序之间增加加热工序、其它材料的层叠工序等各种工序，因此频发如下不良情况：由于热收缩导致的位置偏移、表面残留化学溶液、物理刺激，连接性变差、断线、导通不良等。因此，现状是期望全新的ITO替代技术。

因而，本发明的目的在于，提供形成有显示区域的敏感电极（微细的导电图案）的接触式传感器用构件及其制造方法，所述敏感电极作为ITO的替代而发挥功能，不会伴有显示区域的敏感电极的透视、光反射之类的问题，且抑制了其与装饰区域的导电布线（导电图案）之间的断线、导通不良，连接性优异。

用于解决问题的手段

为了解决上述课题，本发明提供以下（1）~（7）所述的接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件。

（1）接触式传感器用构件的制造方法，其具备如下工序：导电涂布膜形成工序：对于被区分成显示区域和装饰区域的基板，在上述显示区域上和上述装饰区域上涂布感光性导电糊剂，从而得到导电涂布膜；以及，导电图案形成工序：对上述显示区域上的上述导电涂布膜与上述装饰区域上的上述导电涂布膜一并进行曝光和显影，进而以100~250℃进行加热或照射氙闪光管的光，从而得到导电图案，上述显示区域上的上述导电图案的线宽为2~6μm，上述装饰区域上的上述导电图案的线宽为7~100μm。

（2）接触式传感器用构件的制造方法，其具备如下工序：

遮光涂布膜形成工序：对于被区分成显示区域和装饰区域的基板，在上述显示区域上涂布感光性遮光糊剂，从而得到遮光涂布膜；导电涂布膜形成工序：在遮光涂布膜形成工序后，在上述显示区域上和上述装饰区域上涂布感光性导电糊剂，从而得到导电涂布膜；以及，遮光层和导电图案形成工序：对上述显示区域上的上述遮光涂布膜和上述导电涂布膜与上述装饰区域上的上述导电涂布膜一并进行曝光和显影，进而以100~250℃进行加热或照射氙闪光管的光，从而得到遮光层和导电图案，上述显示区域上的上述导电图案的线宽为2~6μm，上述装饰区域上的上述导电图案的线宽为7~100μm。

（3）根据上述（1）或（2）所述的接触式传感器用构件的制造方法，其中，上述显示区域上的上述导电涂布膜中含有的有机成分与上述装饰区域上的上述导电涂布膜中含有的有机成分是相同的。

（4）根据上述（1）~（3）中任一项所述的接触式传感器用构件的制造方法，其中，上述显示区域上的上述导电涂布膜的组成与上述装饰区域上的上述导电涂布膜的组成是相同的。

（5）根据上述（4）所述的接触式传感器用构件的制造方法，其中，在上述导电涂布膜形成工序中，在上述显示区域上和上述装饰区域上一并涂布感光性导电糊剂。

（6）接触式传感器用构件，其具备：被区分成显示区域和装饰区域的基板；在上述显示区域上形成的、线宽为2~6μm的导电图案；以及，在上述装饰区域上形成的、线宽为7~100μm的导电图案，上述线宽为2~6μm的导电图案的组成与上述线宽为7~100μm的导电图案的组成是相同的。

（7）根据上述（6）所述的接触式传感器用构件，其中，上述显示区域与上述线宽为2~6μm的导电图案之间具有遮光层。

发明的效果