[发明专利]微光刻投射曝光设备的照明系统有效
申请号: | 201480063069.7 | 申请日: | 2014-11-13 |
公开(公告)号: | CN105745580B | 公开(公告)日: | 2018-08-21 |
发明(设计)人: | M.德冈瑟;V.戴维登科;T.科布;F.施莱塞纳;S.希尔特;W.霍格勒 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B26/08 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈金林 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微光 投射 曝光 设备 照明 系统 | ||
1.一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统,包含:
a)光瞳平面(76);
b)掩模平面(88),其中能够布置要由投射光照明的掩模(16);
c)光学积分器(60),配置成产生定位于所述光瞳平面(76)中的多个第二光源(106),其中所述光学积分器(60)包含多个光进入分面(75),所述多个光进入分面中的每一个与所述第二光源(106)之一关联,并且其中所述光进入分面的像至少基本上在所述掩模平面内重叠;
d)空间光调制器(52),具有光离开表面(57)并且配置成以空间解析方式透射或反射照射的投射光;
e)光瞳形成单元(36),配置成引导投射光至所述空间光调制器上;
f)物镜(58),将所述空间光调制器(52)的光离开表面(57)成像于所述光学积分器(60)的光进入分面(75)上,使得所述光离开表面(57)上物体区域(110)的像(110′)与所述光进入分面(75)中的一个光进入分面完全重合;
g)控制单元(90),配置成控制所述光瞳形成单元(36)以及所述空间光调制器(52),使得所述物体区域(110)由所述光瞳形成单元(36)完全照明,并且至少部分且可变地防止与所述物体区域(110)中的点关联的投射光照射至所述光进入分面(75)中的所述一个光进入分面上。
2.如权利要求1的照明系统,其中,所述光瞳形成单元(36)包含第一反射或透明光束偏转元件(40)的第一光束偏转阵列(38),其中每一个光束偏转元件(40)配置成照明所述空间光调制器(52)上的斑点(94),所述斑点位于通过改变所述光束偏转元件(40)所产生的偏转角而可变的位置。
3.如权利要求1或2的照明系统,其中,所述空间光调制器(52)包含第二反射或透明光束偏转元件(56)的第二光束偏转阵列(54),其中每一个第二光束偏转元件(56)能够处于“开启”状态和“关闭”状态,所述每一个第二光束偏转元件在该“开启”状态引导照射光朝向所述光学积分器(60),并且在该“关闭”状态引导照射光至别处。
4.如权利要求3的照明系统,其中,所述第二光束偏转阵列(54)为数字反射镜装置。
5.如权利要求3的照明系统,其中,至少10个第二光束偏转元件(56)布置在所述物体区域(110)中。
6.如权利要求3的照明系统,其中,布置在所述物体区域(110)中的相邻第二光束偏转元件(56)的中央沿着直线对齐,并且其中所述直线的像(116)与所述光进入分面(75)中的所述一个光进入分面的边界线形成角α,其中α与m·45°不同,而m=0、1、2、3、......。
7.如权利要求6的照明系统,其中,所述第二光束偏转元件(56)的边界布置在第一矩形栅格内、所述光进入分面(75)的边界布置在第二矩形栅格内,并且其中所述第一矩形栅格在所述光进入分面(75)上形成的像(114)与所述第二矩形栅格形成所述角α。
8.如权利要求3的照明系统,其中,所述物体区域(110)沿着第一方向(X)的长度大于所述物体区域沿着第二方向(Y)的长度,所述第二方向与所述第一方向垂直,并且其中所述物镜(58)为变形物镜,其具有放大率M,|M|沿着所述第一方向(X)时小于沿着所述第二方向(Y)时。
9.如权利要求8的照明系统,其中,所述第二方向对应至扫描方向(Y),所述掩模(16)在由所述照明系统(12)照明时沿所述扫描方向移动。
10.如权利要求3的照明系统,其中,所述第二光束偏转元件(56)布置在所述物镜(58)的与其中布置所述光进入分面(75)的平面平行的物平面中,并且其中所述第二光束偏转元件(56)在所述“开启”状态产生照射光非零的偏转角。
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